多弧離子鍍與磁控濺射，蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別

來源：杭州太昊科技有限公司 2009年07月29日 08:55

多弧離子鍍與磁控濺射，蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別（轉(zhuǎn)載自光學(xué)在線）

是轉(zhuǎn)載的說法，有不對的地方請擔待并指正。三者的區(qū)別在于工作原理不同

蒸發(fā)鍍：通過蒸發(fā)鍍加熱使膜材蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍有電阻加熱式、電子束加熱式、感應(yīng)加熱式。

磁控濺射鍍：磁控靶是靜止電磁場，磁場為曲線形，以磁場改變電子運動方向，是展于高密度的等離子體異常輝光放電。其特點是濺射能量低，基本溫度低。

多弧離子鍍：多弧靶是電弧蒸發(fā)源，是冷陰極電弧放電型自持自離化的固體蒸發(fā)源。其特點是離子能量高，沉積速率高，膜層改密性高，單固性好。

蒸發(fā)鍍主要做玻璃和塑膠，俺不懂，毛主席老人家說得好，沒有調(diào)查就沒有發(fā)言權(quán)．在此說說磁控和多弧
磁控能對多種金屬進行濺射，膜厚和顏色比較容易控制，膜層顆粒細能滿足良好外觀要求．沉積時間較長，膜層耐磨性不如多?。?br /> 多弧的優(yōu)點就是磁控的缺陷，還有就是對有些靶材鍍出來外觀效果不理想如金，不銹鋼等
不過二者結(jié)合起來用的也大有人在．

塑膠產(chǎn)品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜，若要單固性好些就要采用磁控濺射鍍；若要表面光亮些就有蒸發(fā)鍍

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