設(shè)備更新 | DENS TEM 原位樣品桿產(chǎn)品選型指南
原位樣品桿系列產(chǎn)品在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用,研究人員可以利用這些設(shè)備進(jìn)行材料結(jié)構(gòu)、相變、生長過程、電化學(xué)反應(yīng)等方面的原位觀察,在材料性能、催化、電化學(xué),納米技術(shù)和材料合成等許多領(lǐng)域都具有廣泛的應(yīng)用。
原位樣品桿系列產(chǎn)品選型
01 Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿
Lightning Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿是 DENSsolutions 全新升級創(chuàng)新的原位解決方案,可以在冷卻或加熱樣品的同時(shí),對其施加可控的電學(xué)刺激,并以原子級分辨率在透射電鏡下觀察樣品的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)過程。
主要性能參數(shù)
1.系統(tǒng)操控模式:冷凍&加電,加熱&加電
2.可運(yùn)行的溫度范圍:≤ -160 ℃ - 800 ℃
3.冷凍方式:外置液氮罐
4.卻和穩(wěn)定時(shí)間:≤ 60 min
5.分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置)
6.可達(dá)到的電流范圍:1 pA - 100 mA
02 Lightning TEM 原位熱電樣品桿
Lightning 原位熱電樣品桿可在精確控制加電和加熱環(huán)境的同時(shí)觀察樣品變化的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)過程。Lightning 能夠在進(jìn)行熱學(xué)研究的同時(shí),在 pA 電流靈敏度下進(jìn)行 I-V 測試,其搭配的 Nano-Chip 芯片能在 900 ℃ 高溫下同時(shí)實(shí)現(xiàn)高于 300 kV/cm 的電場,芯片擁有多種配置,能夠滿足不同的實(shí)驗(yàn)要求,同時(shí)保持 TEM 的原子級分辨率成像能力。
主要性能參數(shù)
1.溫度范圍:RT - 1,300 °C
2.可達(dá)到的電場范圍:≥ 300 kV/cm at RT/900 °C
3.可達(dá)到的電流范圍:1 pA - 100 mA
4.可達(dá)到的分辨率:≤ 60 pm
5.分辨率:≤ 1 ?(取決于透射電子顯微鏡配置)
6.漂移率:≤ 0.5 nm/min
03 Climate TEM 原位氣相加熱樣品桿
Climate 原位氣相加熱樣品桿可在在氣氛環(huán)境下同時(shí)觀察樣品在加熱時(shí)的狀態(tài)變化,能夠在 2 bar 的氣體環(huán)境中進(jìn)行達(dá) 1000 ℃ 的高溫實(shí)驗(yàn),并保持 TEM 的原子分辨率,與 DENS 專有的氣體分析儀集成組合使用,可進(jìn)行反應(yīng)產(chǎn)物分析,是當(dāng)前市場上少有的支持結(jié)構(gòu)和化學(xué)信息動(dòng)態(tài)關(guān)聯(lián)的原位系統(tǒng)。
同時(shí)為了滿足客戶研究蒸汽類反應(yīng)物對材料的影響的實(shí)驗(yàn)要求,我們設(shè)計(jì)了蒸汽發(fā)生器,能夠單獨(dú)地將蒸氣添加到任何氣體混合物中,并擁有獨(dú)立控制蒸汽參數(shù)的能力,便于開展相對應(yīng)的研究,為原位實(shí)驗(yàn)中提供實(shí)驗(yàn)自由度。
主要性能參數(shù)
1.加熱范圍:RT - 1,000 °C
2.溫度穩(wěn)定性:≤ ± 0.01 °C
3.分辨率:≤ 100 pm(取決于透射電子顯微鏡配置)
4.漂移率:≤ 0.5 nm/min
5.氣體輸入管線:3
6.氣體流量范圍(標(biāo)準(zhǔn)化):0, 0.01-1 ml / min
04 Stream TEM 原位液相加熱/加電樣品桿
Stream 原位液相加熱/加電系統(tǒng)為材料科學(xué)、化學(xué)和生物學(xué)中各類研究提供了全新的觀察視野。其設(shè)計(jì)的 Nano-Cell 芯片使其對樣品加熱或加電時(shí)可獨(dú)立控制流速和液體厚度。
同時(shí)全新升級可集合組裝的液體供應(yīng)系統(tǒng) (LSS) ,引入了精準(zhǔn)控制和可重復(fù)使用的惰性氣體吹掃能力。通過吹掃,可以迅速去除樣品中多余的液體,從而實(shí)現(xiàn)高分辨成像、有價(jià)值的元素分析和電子衍射。并且液體供應(yīng)系統(tǒng) (LSS)能夠主動(dòng)測量液體流量,便于比較不同的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。此外,這意味著可以很容易地發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)中潛在的堵塞,并迅速采取行動(dòng),能夠高效和有效地利用 TEM 機(jī)時(shí)。這些設(shè)計(jì)為原位液相實(shí)驗(yàn)的原子級分辨像和高質(zhì)量的 EDS、EELS 結(jié)果帶來了新的可能性。
主要性能參數(shù)
1.溫度范圍:RT - 100 °C
2.液體模式:靜態(tài)液體、流動(dòng)液體
3.液體流量測量:可測量,通過入口液體流量計(jì)
4.液體厚度控制:可控制,通過入口和出口液體壓力控制
5.可達(dá)到的分辨率 :≤ 3 ? (取決于透射電子顯微鏡配置)
6.可達(dá)到的電場范圍:1 pA - 100 mA
05 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿
Wildfire 原位加熱樣品桿旨在探索材料在高溫下的反應(yīng)和狀態(tài)變化而設(shè)計(jì),其穩(wěn)定性超越了市場上大部分的同類產(chǎn)品,溫度范圍高可達(dá) 1300 ℃,并在所有的方向上保證優(yōu)異的溫度控制性和樣品穩(wěn)定性,確保了在高溫下觀察樣品動(dòng)態(tài)變化過程,且 TEM 保持較高的分辨率和分析性能。
Nano Chip 芯片和四點(diǎn)探針法可快速反饋溫度變化情況,從而實(shí)現(xiàn)即時(shí)穩(wěn)定和精確的溫度控制,避免出行加熱不均勻或熱反饋不及時(shí)的問題。對于需要進(jìn)行高溫下三維重構(gòu)研究的客戶,可選擇配備了 α 傾轉(zhuǎn)角高達(dá) 70° 的樣品桿,以便進(jìn)行多方位的研究。
主要性能參數(shù)
1.加熱控制:四探針法
2.溫度范圍:RT - 1,300 °C
3.溫度均勻性:≥ 99.5 %
4.分辨率:≤ 60 pm(取決于透射電子顯微鏡配置)
5.漂移率:≤ 0.5 nm/min
6.視野范圍:850 µm2
DENS 軟件系統(tǒng):Impulse 集成軟件
Impulse 軟件讓研究人員可以控制實(shí)驗(yàn)條件,只需在電腦上設(shè)置好所需的原位觀測實(shí)驗(yàn)條件,Impulse 將完成剩下的工作。在原位 TEM 實(shí)驗(yàn)期間,軟件將根據(jù)設(shè)置好的條件進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證過程,而您只需專注于實(shí)驗(yàn)結(jié)果,同時(shí)軟件上可以存儲(chǔ)您的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì),以便重現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程。
軟件特征和優(yōu)勢:
01.智能自動(dòng)化:在實(shí)驗(yàn)過程中,您可以專注于其他事情,而智能自動(dòng)化會(huì)跟蹤測量結(jié)果并確保滿足所設(shè)置的樣品條件。
02.靈活的數(shù)據(jù)儀表板:Impulse 在排列和調(diào)整圖表大小方面為您提供了極大的靈活性,可輕松掌握任何數(shù)據(jù)細(xì)節(jié)。
03.數(shù)據(jù)整合:軟件支持將您的原位環(huán)境條件實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)與其他數(shù)據(jù)同步,并在幾秒鐘內(nèi)為您的相機(jī)和探測器圖像提供環(huán)境條件注釋。
04.實(shí)驗(yàn)自由:Impulse 軟件支持您使用自己創(chuàng)建的 Python 腳本進(jìn)行實(shí)驗(yàn)控制。您可以選擇創(chuàng)建自己的腳本,或者使用我們的預(yù)制腳本,甚至可以在線訪問數(shù)千個(gè) Python 模塊。這種實(shí)驗(yàn)自由將使您能夠擴(kuò)展研究范圍并開展您的創(chuàng)造性實(shí)驗(yàn)控制。
全新升級的 FIB 樣品臺(tái)
DENSsolutions 現(xiàn)在推出了第三代 FIB 制樣樣品臺(tái),此設(shè)備可以幫助您更簡單、更安全、更快捷地制備薄片樣品,且適配 DENS 樣品桿芯片。
TEM 樣品制樣設(shè)備
Technoorg Linda 的主要產(chǎn)品包括離子研磨儀、離子減薄儀、離子精修儀和樣品制備相關(guān)的配件和耗材。其產(chǎn)品可配備了超高能離子槍和低能離子槍,通過控制離子束的能量和角度,可對樣品進(jìn)行快速研磨及表面精細(xì)加工和拋光。Technoorg Linda 系列離子束樣品制備儀器是先進(jìn)的樣品制備工具之一,廣泛應(yīng)用于電子顯微鏡、X 射線衍射、能譜分析和納米技術(shù)等領(lǐng)域。
Unimill 離子減薄儀:用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動(dòng)離子束減薄系統(tǒng)
Gentle Mill 離子精修儀:用于制備高質(zhì)量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。