紅外截止濾光片也稱為紅外阻隔濾光片,是一種用于阻止紅外光通過的光學(xué)濾鏡。它在光學(xué)成像、科學(xué)實(shí)驗(yàn)和攝影中具有廣泛的應(yīng)用。本文將詳細(xì)介紹它的制作方法,包括材料選擇、制作工藝、質(zhì)量檢測(cè)。
紅外截止濾光片的制作材料:
1. 基材選擇
基材通常使用光學(xué)玻璃或合成材料,如:
光學(xué)玻璃:具有優(yōu)良的光學(xué)性質(zhì)和加工性,常用的有浮法玻璃、石英玻璃等。
合成材料:如聚碳酸酯(PC)、聚酯(PET)等,這些材料具有較好的機(jī)械性能和耐用性,適合制造薄膜涂層的濾光片。
2. 涂層材料
涂層材料決定了其光學(xué)性能。常見的涂層材料有:
金屬氧化物:如二氧化鈦、二氧化硅等,具有較好的光學(xué)透明性和耐用性。
稀土金屬化合物:如鉺(Er)、鐿(Yb)等,能夠在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)有效阻擋紅外光。
制作工藝:
1. 基材準(zhǔn)備
切割與拋光:將光學(xué)玻璃或合成材料切割成所需尺寸,然后進(jìn)行拋光處理,確保表面光滑,以便涂覆均勻的光學(xué)薄膜。
2. 涂層沉積
真空蒸發(fā):將涂層材料加熱至氣化狀態(tài),在真空環(huán)境中沉積到基材表面,形成薄膜。該方法適用于金屬氧化物和稀土金屬化合物的沉積。
磁控濺射:利用高能粒子轟擊靶材,將其材料濺射到基材表面形成薄膜。這種方法適用于涂覆均勻性要求較高的光學(xué)薄膜。
化學(xué)氣相沉積(CVD):通過化學(xué)反應(yīng)將氣態(tài)的涂層材料沉積到基材上,形成厚度均勻的薄膜。這種方法適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的薄膜沉積。
3. 薄膜設(shè)計(jì)
設(shè)計(jì)軟件模擬:使用光學(xué)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行薄膜結(jié)構(gòu)的模擬,設(shè)計(jì)多層膜的厚度和折射率,以滿足特定的光學(xué)要求。
優(yōu)化調(diào)整:根據(jù)模擬結(jié)果調(diào)整涂層的工藝參數(shù),如沉積速率、厚度控制等,確保濾光片在目標(biāo)波長(zhǎng)范圍內(nèi)具備優(yōu)良的截止性能。
4. 質(zhì)量檢測(cè)
光譜測(cè)試:使用光譜儀測(cè)試濾光片的透過率和反射率,確保其在紅外波段的截止性能符合要求。
耐久性測(cè)試:對(duì)濾光片進(jìn)行環(huán)境測(cè)試,如高溫、濕度、化學(xué)腐蝕等,以驗(yàn)證其在實(shí)際應(yīng)用中的穩(wěn)定性和耐用性。
視覺檢測(cè):檢查濾光片表面是否存在氣泡、劃痕等缺陷,確保其光學(xué)性能不受影響。
紅外截止濾光片的制作工藝涉及基材準(zhǔn)備、涂層沉積、薄膜設(shè)計(jì)和質(zhì)量檢測(cè)等多個(gè)環(huán)節(jié),每一個(gè)步驟都對(duì)產(chǎn)品的性能有著重要影響。
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