什么是光刻膠?光刻工藝中使用的感光化學劑這意味著。這種液體化學劑用于需要精細加工的領(lǐng)域,例如半導體制造和印刷電路板圖案化。光致抗蝕劑具有響應光而發(fā)生化學變化的特性。
光刻膠主要有兩種類型:正型和負型。
正性光刻膠:
受到紫外線照射時發(fā)生化學反應,光刻膠溶解(溶解)。然后用顯影劑處理去除曝光區(qū)域,留下未曝光區(qū)域。
負性光刻膠:
暴露在紫外線下會發(fā)生化學反應,光刻膠變硬(不溶解)。然后用顯影液處理抗蝕劑,僅留下曝光區(qū)域并去除未曝光區(qū)域。
光刻膠是形成精細電路和圖案的bi備材料,其質(zhì)量和性能直接影響產(chǎn)品的精度和可靠性。。制造過程(光刻)涉及光刻膠涂覆、曝光和顯影步驟,準確控制這些步驟非常重要。
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