曝光設(shè)備原理

來源：深圳市京都玉崎電子有限公司 2024年11月14日 10:51

我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺、傳送硅片的機械手等組成。

鏡頭和光掩模的設(shè)計精度高，平臺的運行精度也很高。操作過程中，曝光目標精確固定在載物臺上。在操作中，每次曝光時載物臺都會移動，在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。

從光源發(fā)出短波長的強光，偏光透鏡調(diào)整光的方向，然后照射到光掩模上，光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦，并在曝光的目標上描繪出非常小的電路圖案。

一旦整個曝光目標被曝光，它就會被機器人或其他設(shè)備運輸。根據(jù)產(chǎn)品的不同，曝光目標會滲透到液體中，有些產(chǎn)品的設(shè)計旨在實現(xiàn)更準確的曝光。

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