高潔凈真空的蒸鍍裝置

來源：深圳市秋山貿(mào)易有限公司 2024年12月03日 17:30

真空蒸著裝置 VE-2013

小型TMP＋RP的排氣系統(tǒng)，以蒸鍍銀等。碳蒸鍍使用專用碳（SLC-30）進(jìn)行蒸鍍的夾持式蒸鍍槍。

●可通過TMP + RP的排氣系統(tǒng)在清凈高真空中蒸鍍。

●排氣操作是只有觸摸面板開關(guān)的ON / OFF的全自動(dòng)。

●蒸鍍?cè)纯蛇x擇（低輻射熱）金屬蒸鍍電極或（替換芯專用）碳蒸鍍槍。

特征

★VE-2013是繼承VE-2030（本公司制造）概念的簡(jiǎn)易型真空蒸鍍裝置。

★TMP實(shí)現(xiàn)了機(jī)箱內(nèi)藏的緊湊機(jī)箱。因?yàn)樗桥_(tái)式機(jī)，所以它占地方

沒有（RP是地板放置）。

★采用小型TMP + RP排氣系統(tǒng)，提供低價(jià)格的高真空蒸鍍裝置。

★排氣操作僅通過觸摸面板開關(guān)的開啟/關(guān)閉進(jìn)行全自動(dòng)控制。

★由于鎢籃子的使用可以蒸鍍金鋁鉻銀等。

★碳素蒸鍍使用φ0.5mm的專用碳素蒸鍍鉗型。

相關(guān)產(chǎn)品

凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。

聯(lián)系我們