同類(lèi)產(chǎn)品
電波暗室就是內(nèi)表面全部裝有無(wú)反射材料的屏蔽室。模擬自由空間的傳播環(huán)境,主要用于微波天線(xiàn)系統(tǒng)的參數(shù)測(cè)量。隨著電子技術(shù)的日益發(fā)展,電波暗室已被更多的人了解和應(yīng)用,那么怎樣判斷一個(gè)電波暗室的性能呢?下面一起來(lái)看看吧。
一、電波暗室的電性能指標(biāo)
通常用靜區(qū),反射率電平,交叉極化度,多路徑損耗,幅度均勻性和工作頻率等六項(xiàng)指標(biāo)來(lái)表示。
1、交叉極化度:由于暗室結(jié)構(gòu)的不嚴(yán)格對(duì)稱(chēng)、吸波材料對(duì)各種極化波吸收的不一致性以及暗室測(cè)試系統(tǒng)等因素使電波在暗室傳播過(guò)程中產(chǎn)生極化不純的現(xiàn)象。如果待測(cè)試天線(xiàn)與發(fā)射天線(xiàn)的極化面正交和平行時(shí),所測(cè)試場(chǎng)強(qiáng)之比小于-25dB,就認(rèn)為交叉極化度滿(mǎn)足要求。
2、多路徑損耗:路徑損耗不均勻會(huì)使電磁波的極化面旋轉(zhuǎn),如果以來(lái)波方向旋轉(zhuǎn)待測(cè)試天線(xiàn),接收信號(hào)的起伏不超過(guò)±0.25dB,就可忽略多路徑損耗。
3、場(chǎng)均勻性:在暗室靜區(qū),沿軸移動(dòng)待測(cè)試天線(xiàn),要求起伏不超±2dB;在靜區(qū)的截面上,橫向和上下移動(dòng)待測(cè)天線(xiàn),要求接收信號(hào)起伏不超過(guò)±0.25dB。
二、電波暗室性能指標(biāo)
在利用光線(xiàn)發(fā)射法和能量物理法對(duì)暗室性能進(jìn)行仿真計(jì)算時(shí),需要考慮電波的傳輸去耦,極化去耦,標(biāo)準(zhǔn)天線(xiàn)的方向圖因素,吸波材料本身的垂直入射性能和斜入射性能,多次反射等影響。但在實(shí)際的工程設(shè)計(jì)過(guò)程中,往往以吸波材料的性能作為暗室性能的關(guān)鍵決定因素。
三、天線(xiàn)測(cè)量的誤差
1、有限測(cè)試距離所引起的誤差。設(shè)待測(cè)的是平面天線(xiàn),接收的來(lái)波沿其主波束的軸向。若測(cè)試距離大小,由待測(cè)天線(xiàn)之不同部位所接受的場(chǎng)不能相同,因此具有平方根律相位差。若待測(cè)天線(xiàn)恰位于源天線(xiàn)遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)的邊界2D2/λ,其口徑邊緣與相位中心的場(chǎng)存在22.5度的相位差.若測(cè)試距離加倍,在相位差減半。對(duì)于測(cè)量中等旁瓣電平的天線(xiàn),距離2D2/λ通常已經(jīng)足夠,測(cè)出的增益約偏小0.06dB。測(cè)試距離縮短會(huì)使測(cè)量誤差迅速增大,旁瓣會(huì)與主波束合并成肩臺(tái)式,甚至合為一體。通常0.25dB的錐銷(xiāo)使測(cè)出的增益降低約為0.1dB,并造成近旁瓣的些許誤差。
2、反射。直射波受從周?chē)矬w反射的干涉,在測(cè)試區(qū)域形成場(chǎng)的變化,由于該波波程差作為位置的函數(shù)而迅速變化,使起伏的長(zhǎng)度屬于波長(zhǎng)的數(shù)量級(jí)。例如比直射波低20dB的反射波,可引起-0.92~+0.83dB的功率誤差,具體取決于兩種之間的差異;相位測(cè)量的誤差范圍為±5.7°,但若反射波的場(chǎng)比直射波低40dB,則側(cè)出的幅度與相位分別僅有±0.09與±0.6°的誤差。反射在低旁瓣的測(cè)量中特別有害。一項(xiàng)很小的反射通過(guò)主瓣耦合到待測(cè)天線(xiàn),可以掩蓋住耦合到旁瓣的直射波。如果相耦合的直射和反射波強(qiáng)度相等,則測(cè)出的旁瓣電平會(huì)抬高6dB左右,或者在測(cè)得的波瓣圖中成為零點(diǎn)。
3、其他誤差。還可能導(dǎo)致天線(xiàn)測(cè)量產(chǎn)生誤差的因素有:低頻時(shí)與電抗近場(chǎng)的耦合可能比較顯著;測(cè)量天線(xiàn)的對(duì)準(zhǔn)誤差;其他干擾信號(hào);測(cè)試電纜所引起的誤差等。
電波暗室的應(yīng)用已經(jīng)越來(lái)越廣泛,為了滿(mǎn)足人們的需求也會(huì)對(duì)電波暗室各個(gè)參數(shù)及各個(gè)方面做出改善。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。