環(huán)境溫濕度對半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的影響
測量氣體中的水蒸氣露點(diǎn)溫度的儀器叫做露點(diǎn)儀。露點(diǎn)儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同,可以分為多種類型。這里只介紹熱電制冷自動(dòng)檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用。
露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在
凈化間內(nèi)進(jìn)行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度(RH)這一項(xiàng),一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%,精度2%(70℃以下)濕度超標(biāo)會(huì)影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計(jì)劃的完成。
在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū),濕度不穩(wěn)定,會(huì)出現(xiàn)很多問題。最典型的問題是烘干期延長,整個(gè)處理過程變得難以控制。當(dāng)相對濕度高于35%時(shí),元件易被腐蝕。此外,將顯影液噴在芯片表面時(shí),顯影液迅速揮發(fā),使芯片表面溫度下降,致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會(huì)影響顯影特性,還會(huì)吸收到半導(dǎo)體內(nèi),這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷,還必須增加一些不必要的工藝控制。
特征
特 點(diǎn)
全部在TEKHNE工廠校準(zhǔn) 創(chuàng)新的氧化鋁技術(shù) 測量范圍:-100~+20℃露點(diǎn) 0~2000ppm(選件) 精度:±2℃露點(diǎn) 壓力:10-4Pa~30 MPa TK-100在線式監(jiān)測儀 TK-100傳感器不包含監(jiān)測儀 安裝簡便
簡 便
TEKHNE公司是一家擁有40年露點(diǎn)測量的日本制 造商,生產(chǎn)創(chuàng)新的TK-100系列濕度儀。 測量方便,帶有顯示屏的TK-100在線式濕度儀能 連續(xù)測量,你所需要的是100~240VAC電源和樣氣接 口。此外,你也可以選擇TK-100露點(diǎn)傳感器,單獨(dú)使 用4~20mA信號輸出供電18~28VDC。
高 品 質(zhì)
TEKHNE的氧化鋁陶瓷傳感器能保證最佳精度, 快速響應(yīng)以及長期穩(wěn)定性。大多數(shù)先進(jìn)的傳感器技術(shù) 均應(yīng)用于此。 此外,先進(jìn)的微處理器技術(shù)實(shí)現(xiàn)全溫度補(bǔ)償,將 處理溫度到露點(diǎn)測量值的影響最小化。通過TK-100傳 感器把-80~+20℃露點(diǎn)輸出轉(zhuǎn)換為穩(wěn)定的和線性的 4~20mA輸出。
靈 活 性
TEKHNE的TK-100系列用于空氣或惰性氣體的露 點(diǎn)測量。把傳感器通過選件取樣座由5/8” UNF或1/8” NPT接入到你的處理線上。1/8 DIN顯示屏可在距離傳 感器1000米遠(yuǎn)處設(shè)置。 處理線的流量必須設(shè)定為1~10NL/分(帶選件取 樣座)或0.5~10m/秒(不帶選件取樣座)溫度范圍 -20~+60℃,壓力可達(dá)30MPa。建議安裝過濾器濾去 灰塵。
主要用途
手套箱內(nèi)的露點(diǎn)控制
干燥機(jī)露點(diǎn)檢查
熱處理爐內(nèi)氣氛控制
潔凈室和干燥室的露點(diǎn)管理
氣體純度控制
天然氣水分管理
半導(dǎo)體制造設(shè)備
有機(jī)EL制造
技術(shù)參數(shù)
TK-100 傳感器
測量范圍 -100~+20 ℃
露點(diǎn) 0~2000ppm(選件)
精度 ±2 ℃露點(diǎn)
模擬輸出 4~20 mA(三線技術(shù))
供電 12~28 VDC
操作溫度 -20~+60 ℃
操作壓力 10-4Pa~30 MPa 13
TK-100 監(jiān)測儀
顯示器 5位數(shù)字LED
測量范圍 -100~+20 ℃露點(diǎn)
輸出 4~20 mA 報(bào)
警繼電器 3個(gè)繼電器觸點(diǎn)
操作環(huán)境 0~+50 ℃(35~85%RH)
供電 100~240 VAC, 50/60 Hz
面板開孔 92寬 x 45高 mm
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。