在傳統(tǒng)的制樣方法中,針對目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行定點切割、研磨或者拋光等通常是一項耗時耗力、十分困難的工作,因為目標(biāo)區(qū)域極易丟失或由于目標(biāo)尺寸太小而難以處理。針對此類樣品,使用徠卡的精研一體機(jī)EM TXP可以輕易地處理。
Leica EM TXP是一款可對目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行精確定位的表面處理設(shè)備,適用于SEM、TEM及LM觀察之前對樣品進(jìn)行切割、拋光等系列處理,尤其適合于制備高難度樣品。另外,借助多功能的特點,徠卡EM TXP也是一款可為離子束研磨技術(shù)和超薄切片技術(shù)服務(wù)的高效的前制樣工具。
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多功能集成
徠卡EM TXP只需要簡單的更換處理樣品的工具就可完成對樣品的不同處理。如圖,通過更換金剛石鋸片(CBN鋸片)、磨盤及研磨拋光片、銑刀、Φ3 mm空心鉆即可實現(xiàn)對樣品的切割、研磨拋光、銑削、沖鉆等處理。一體化的設(shè)備避免了頻繁的轉(zhuǎn)移樣品,有助于保留目標(biāo),使目標(biāo)不丟失,特別適合于小目標(biāo)定點制備。可實現(xiàn)功能的多樣性使得TXP可為多種電鏡制樣設(shè)備進(jìn)行高效的加工預(yù)處理,可在多條電鏡制樣流程中發(fā)揮關(guān)鍵作用。
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多方位觀察
徠卡EM TXP帶有一體化顯微鏡觀察系統(tǒng),配備M80體視鏡,在樣品處理過程中可對目標(biāo)位點進(jìn)行實時觀察,實現(xiàn)對微小目標(biāo)(mm和µm量級)進(jìn)行定點樣品制備。在樣品處理過程中,樣品觀察角度-30°至60°可調(diào),實現(xiàn)對樣品側(cè)面、加工過程、斷面的多角度觀察,同時可通過目鏡標(biāo)尺進(jìn)行距離測量或選配IC80攝像頭及LAS圖像應(yīng)用軟件進(jìn)行圖像分析。
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微尺寸調(diào)節(jié)
徠卡EM TXP可以靈活地選擇樣品固定夾具,以應(yīng)對各類小尺寸及微尺寸樣品。使用AFM樣品固定夾具配合微樣品夾臺插件及平面樣品插件可以應(yīng)對毫米甚至微米尺度的樣品加工處理。同時得益于精密機(jī)械控制部件,樣品的加工工具步進(jìn)精度可達(dá)0.5 µm,配合可調(diào)角度的樣品臂,可實現(xiàn)對樣品的精細(xì)定點定角度加工。
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自動化控制
徠卡EM TXP具有自動化樣品處理過程控制機(jī)制,可以幫助使用者從常規(guī)繁重的樣品制備工作中解脫出來:
帶有自動化E-W運動控制機(jī)制
帶有自動化應(yīng)力反饋機(jī)制,可有效保護(hù)脆性易碎樣品
帶有自動化進(jìn)程或時間倒計數(shù)功能
帶有應(yīng)力反饋控制的空心鉆自動前進(jìn)
帶有潤滑冷卻劑自動注液和液面監(jiān)控機(jī)制
EM TXP特色應(yīng)用
01.PCB定角度切割
1)將一塊PCB樣品固定在樣品夾具中
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2)先切割,然后對PCB進(jìn)行角度調(diào)整
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3)對樣品角度調(diào)整后,再切割
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4)對PCB樣品截面進(jìn)行研磨拋光
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5)制樣結(jié)果觀察:
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02.封裝芯片去層
1)封裝芯片研磨前
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2)使用角度調(diào)配器找平,研磨至第1層芯片
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3)第1層芯片研磨完,露出硅基底并逐漸接近第2層
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4)研磨至第2層芯片全露出
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03.機(jī)械減薄
為離子減薄進(jìn)行前處理,得到Φ3 mm厚度30 µm內(nèi)的薄片,尤其是較脆樣品的機(jī)械減薄是十分困難的工作,徠卡EM TXP可以系統(tǒng)性的實現(xiàn)這一目標(biāo),流程如下所示:研磨樣品臺→粘貼樣品→研磨樣品表面→沖孔→研磨表面→翻面→研磨至所需厚度。最終得到表面拋光質(zhì)量高的薄片。
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最終得到的薄片效果如下:
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徠卡LNT包括超薄切片、組織處理、高壓冷凍、鍍膜、臨界點干燥、機(jī)械研磨拋光、離子束研磨等各類技術(shù)手段。目前領(lǐng)拓儀器是徠卡LNT的華南、西南授權(quán)代理商,領(lǐng)拓儀器為透射電鏡/掃描電鏡/工業(yè)材料樣品提供全套樣品制備服務(wù)。
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