Inframet動態(tài)目標(biāo)模擬器:SIMIT 和SIMAT 區(qū)別及選購建議
1. 設(shè)計理念與定位
特性 | SIMAT | SIMIT |
---|---|---|
設(shè)計目標(biāo) | 模塊化實驗平臺 | 全自動化 |
核心優(yōu)勢 | 手動操作靈活,支持硬件級定制 | 高集成度、自動化控制與高精度 |
適用對象 | 科研實驗室、教育機(jī)構(gòu)、預(yù)算有限場景 | 軍事測試中心、工業(yè)化產(chǎn)線、高精度需求場景 |
2. 技術(shù)特性對比
功能 | SIMAT | SIMIT |
---|---|---|
動態(tài)目標(biāo)數(shù)量 | 支持2個動態(tài)目標(biāo)(主+次級) | 支持更多動態(tài)目標(biāo)(多目標(biāo)并行模擬) |
控制方式 | 部分依賴手動調(diào)節(jié)(如輻射源更換) | 全計算機(jī)化控制,支持復(fù)雜編程 |
輻射校準(zhǔn) | 手動調(diào)節(jié)(溫度/衰減器) | 自動化校準(zhǔn),精度更高 |
視場范圍 | 窄視場(<8°)結(jié)合轉(zhuǎn)臺擴(kuò)展至120° | 默認(rèn)寬視場,動態(tài)范圍更廣 |
光譜兼容性 | 基礎(chǔ)版紅外,需硬件升級至UV/可見光 | 默認(rèn)多光譜覆蓋,支持更廣波段 |
3. 動態(tài)模擬原理差異
SIMAT:
使用兩臺離軸反射準(zhǔn)直器生成目標(biāo),通過光束合成器疊加背景。
目標(biāo)運動依賴機(jī)械調(diào)節(jié)(如光束合成器角度),動態(tài)范圍受限。
雙投影系統(tǒng)+機(jī)械控制:
距離模擬:通過調(diào)節(jié)目標(biāo)角尺寸(連續(xù)/步進(jìn))實現(xiàn)。
SIMIT:
可能采用動態(tài)可編程光源或數(shù)字微鏡陣列(DMD),背景與目標(biāo)統(tǒng)一生成。
目標(biāo)運動由軟件控制,軌跡精度與靈活性顯著提升。
數(shù)字化投影陣列:
高級仿真:支持多目標(biāo)交互、復(fù)雜輻射譜變化及實時場景切換。
4. 典型應(yīng)用場景
場景 | SIMAT | SIMIT |
---|---|---|
科研實驗 | ? 需手動更換輻射源的非標(biāo)測試 | ? 自動化程度過高,靈活性受限 |
多目標(biāo)測試 | ? 僅支持雙目標(biāo) | ? 多目標(biāo)追蹤與交互仿真 |
產(chǎn)線批量測試 | ? 效率較低 | ? 高速自動化驗證,適配產(chǎn)線節(jié)奏 |
老舊設(shè)備兼容 | ? 模塊化設(shè)計便于適配非標(biāo)接口 | ? 依賴標(biāo)準(zhǔn)化接口 |
5. 選擇決策指南
選擇SIMAT:
需求:靈活手動操作(如測試新型輻射源)、低成本原型驗證、兼容非標(biāo)設(shè)備。
典型場景:大學(xué)實驗室研究誘餌特性、天文目標(biāo)動態(tài)模擬教學(xué)演示。
選擇SIMIT:
需求:高精度自動化測試、多目標(biāo)復(fù)雜場景仿真、軍事級可靠性驗證。
典型場景:導(dǎo)引頭全流程性能測試、衛(wèi)星載荷多目標(biāo)追蹤算法驗證。
總結(jié)
SIMAT:模塊化先驅(qū),以靈活性與低成本為核心,適合探索性實驗與定制化需求,但犧牲了自動化效率。
SIMIT:技術(shù)迭代產(chǎn)物,以自動化、高精度、多目標(biāo)為優(yōu)勢,適合工業(yè)化測試與高復(fù)雜度場景,但初期成本更高。
本質(zhì)差異:
SIMAT是“可拆解的實驗室工具”,適合動手調(diào)試與硬件創(chuàng)新;
SIMIT是“精密黑箱系統(tǒng)”,專為高效、標(biāo)準(zhǔn)化測試而生。
根據(jù)測試頻率、預(yù)算規(guī)模與場景復(fù)雜度權(quán)衡選擇,兩者共同覆蓋從科研到工業(yè)的全鏈條需求。
更多詳情,歡迎聯(lián)系上海明策電子的技術(shù)團(tuán)隊!
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。