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半導體行業(yè)新星誕生：龍圖光罩強勢登陸股市，三年盈利飆升！
2024年08月07日 13:41:40
來源：化工儀器網(wǎng) 點擊量：8240
近日，深圳市龍圖光罩股份有限公司（以下簡稱“龍圖光罩”）成功上市，股票發(fā)行價格為18.50元/股，發(fā)行市盈率為30.20倍。
【化工儀器網(wǎng) 廠商報道】 近日，深圳市龍圖光罩股份有限公司(以下簡稱“龍圖光罩”)成功上市，股票發(fā)行價格為18.50元/股，發(fā)行市盈率為30.20倍。
龍圖光罩是一家專注于半導體關鍵材料的科技創(chuàng)新型企業(yè)，主營業(yè)務為半導體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。作為國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商，龍圖光罩與國內主流大型特色工藝晶圓制造廠商、芯片設計公司建立了穩(wěn)定的合作關系。其半導體掩模版產(chǎn)品主要用于功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域，終端應用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費電子等多個場景。
近年來，龍圖光罩的業(yè)績呈現(xiàn)高速增長態(tài)勢。根據(jù)招股書，2021年至2023年，龍圖光罩的營業(yè)收入年均復合增長率為38.56%，凈利潤的年均復合增長率更是超過了40%。具體來看，這三年間，公司歸屬于發(fā)行人股東的凈利潤分別為4116.42萬元、6448.21萬元及8360.87萬元，盈利能力顯著提升。這一高速增長態(tài)勢有望在未來持續(xù)，公司預計2024年上半年營業(yè)收入和凈利潤將繼續(xù)保持穩(wěn)健增長。
龍圖光罩的成功離不開其在技術研發(fā)上的持續(xù)投入。公司在高精度半導體掩模版領域持續(xù)進行設備引進與技術攻關，掌握了多項自主研發(fā)的核心技術，包括圖形補償技術、精準對位標記技術、光刻制程管控技術、曝光精細化控制技術、缺陷修補與異物去除技術等，涵蓋CAM、光刻、檢測三大環(huán)節(jié)。此外，公司還積極開展技術布局與儲備，儲備了電子束光刻技術及PSM相移掩模版技術，形成了一定的技術成果。目前，公司已經(jīng)實現(xiàn)了130nm工藝節(jié)點半導體掩模版的量產(chǎn)，具備±20nm的CD精度和套刻精度，技術實力和工藝能力在中國第三方半導體掩模版廠商中居于領先地位。
龍圖光罩的技術領先和優(yōu)質客戶資源也為其業(yè)績增長提供了重要保障。公司已與眾多知名客戶建立了長期穩(wěn)定的合作關系，包括中芯集成、士蘭微、積塔半導體、新唐科技、比亞迪半導體、立昂微、燕東微、粵芯半導體、長飛先進、揚杰科技等。
隨著新能源汽車、光伏發(fā)電、工業(yè)自動化、物聯(lián)網(wǎng)等下游新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，中國功率器件市場規(guī)模預計將持續(xù)增長，這將為半導體掩模版行業(yè)創(chuàng)造大量的市場需求。龍圖光罩作為國內半導體掩模版領域的領軍企業(yè)，將充分受益于這一行業(yè)趨勢。公司表示，未來將持續(xù)加大技術創(chuàng)新投入，逐步實現(xiàn)90nm、65nm以及更高制程節(jié)點半導體掩模版的量產(chǎn)與國產(chǎn)化配套，填補我國高端半導體掩模版領域的空白。
此次IPO，公司計劃將募集資金用于高端半導體芯片掩模版制造基地項目、高端半導體芯片掩模版研發(fā)中心項目、補充流動資金項目。
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