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光譜橢偏儀4

2024-11-18

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光譜橢偏儀

自動對準

光譜橢偏儀SENDURO® 所有的全自動光譜橢偏免除了用戶根據(jù)高度和傾斜度手動地對準樣品的麻煩,這對于高精度和可重復的光譜橢偏是必要的。該的自動對準傳感器大大減少了操作誤差,適用于透明和反射樣品,即使在彎曲的樣品上也可實現(xiàn)自動掃描。

操作簡單

配方模式非常適合于生產(chǎn),工藝監(jiān)控以及研發(fā)的常規(guī)應用。該光譜橢偏儀帶有隨機可的配方數(shù)據(jù)庫,可以根據(jù)您的具體需要對其進行修改。

步進掃描分析器

步進掃描分析器SSA是SENTECH光譜橢偏技術的一個特征。分析樣品的總時間只需幾秒鐘。


SENDURO® 可測量透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的折射率和厚度。SENDURO® 自動掃描則實現(xiàn)了較高的樣品速度,化安裝工作量和低的維護成本。該光譜橢偏儀的自動掃描具有預定義或用戶定義的模式、允許廣泛的統(tǒng)計特性和數(shù)據(jù)圖形顯示。

SENDURO® 是SENTECH自動化,占地面積小,設計緊湊的橢偏儀的代表。測量臺包括橢偏儀光學部件、自動傾斜和高度傳感器、電動樣品臺和控制器電子設備,它們?nèi)烤o湊的組合。為了達到更高產(chǎn)量的要求,我們的光譜橢偏儀也提供了片盒站裝載尺寸到300 mm的大晶片。

SENDURO® 以其高樣品測量速度,易于操作和自動對準在工業(yè)應用中表現(xiàn)出色。應用范圍從半導體上的介質(zhì)膜到玻璃上的多層光學涂層。

SENDURO® 優(yōu)異的光譜橢偏軟件具有配方模式和工程模式。配方模式致力于重復應用程序的簡單執(zhí)行。密碼控制的用戶登錄允許不同級別的用戶登錄。在交互模式下,橢偏測量通過交互式的,指導性的圖形用戶界面得到增強。此外,可以使用材料數(shù)據(jù)庫和散射模型修改已經(jīng)存在的配方或建立新的配方。

Multi sample stage with semitransparent substratesMultilayer analysis by SpectraRay/3Compact housing of semi-automated ellipsometerCassette station for up to 300 mm waferSENDURO® 300 with cassette-to-cassette loadingApplicable measurement tool for R?&?DThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µmThickness map of Al2O3 / Si (substrate) according to SEMI standardApplicable for measurement in cleanroom environment





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