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橢偏反射儀

2024-11-19

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橢偏反射儀

厚度確定

橢偏測量和反射測量的結(jié)合允許通過自動(dòng)識別循環(huán)厚度周期來快速且明確地確定透明膜的厚度。

寬的測量范圍

激光橢偏儀和反射儀的結(jié)合將透明薄膜的厚度范圍擴(kuò)展到25μm,更多地取決于光度計(jì)的選項(xiàng)。

擴(kuò)展激光橢偏儀的極限

性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。


SE 500adv結(jié)合了橢偏儀和反射儀,了測量透明膜層厚度的模糊性。它把可測量的厚度擴(kuò)展到25m,因此SE 500adv擴(kuò)展了標(biāo)準(zhǔn)激光橢偏儀SE 400adv的能力,特別適用于分析較厚的介質(zhì)膜、有機(jī)材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此,它提供了標(biāo)準(zhǔn)激光橢偏儀從未達(dá)到的靈活性。作為橢偏儀,可以進(jìn)行單角度和多角度測量。當(dāng)用作膜厚探針時(shí),在正常入射下測量透明或弱吸收膜的厚度。

SE 500adv中的橢偏測量和反射測量的組合包括橢圓測量光學(xué)部件、角度計(jì)、組合反射測量頭和自動(dòng)準(zhǔn)直透鏡、樣品臺、氦氖激光光源、激光檢測單元和光度計(jì)。

SE 500adv的選項(xiàng)支持在微電子、微系統(tǒng)技術(shù)、顯示技術(shù)、光伏、化學(xué)等領(lǐng)域的應(yīng)用。


X-y-mapping stageThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µm11SE 500-300 with manual stage and autofocusCombined laser ellipsometer with reflectometer




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