EP3 nanofilm呈像橢偏儀

[EP3] 德國(guó)nanofilm公司于1991年開(kāi)發(fā)出了世界上*臺(tái)Brewster角顯微鏡(BAM)，該儀器主要用于薄層膜的觀察。近幾年來(lái)，nanofilm又相繼推出了不同用途的BAM產(chǎn)品以及相應(yīng)的配套儀器，其款的EP3橢圓偏振成相系統(tǒng)把橢圓偏振法與顯微鏡法相結(jié)合，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究領(lǐng)域提供了可能。 應(yīng)用領(lǐng)域： 橢圓光度法是一種非破壞性和無(wú)需標(biāo)記的、用于確定膜厚和材料光學(xué)特性的方法。通過(guò)把橢圓光度法與顯微鏡法相結(jié)合，影像橢圓光度儀不斷改進(jìn)，平面精度已經(jīng)能夠達(dá)到1μm，立體精度已提高到1nm，為其進(jìn)入到生物分析和微電子等新的研究區(qū)域提供了可能。EP3是德國(guó)nanofilm公司zui近推出的新一代橢圓光度儀產(chǎn)品。主要應(yīng)用于以下各種*領(lǐng)域： 生物芯片：同次性、膜厚、雜交、動(dòng)力學(xué)等測(cè)量 LB/單層/自組合單層膜/活性劑：檢測(cè)LB膜的結(jié)構(gòu)、單層膜厚度、界面吸附等 接觸印刷：小于1μm微結(jié)構(gòu)的質(zhì)量控制、膜厚測(cè)量、測(cè)量折射率和吸附 磁盤(pán)：同次性、膜硬度 (油)膜厚度、光學(xué)產(chǎn)品磁光學(xué)結(jié)果的觀察 納米粒子：納米粒子上的一小塊區(qū)域、折射率和吸附的分布 聚合物：膜厚、折射率和吸附測(cè)量 主要特點(diǎn) 采用高精度回零橢圓光度法 出色的空間分辨率(1μm), 大面積圖像橢圓光度法（多達(dá)若干cm2） 單一或多重的激光波長(zhǎng) 新穎的自動(dòng)測(cè)角計(jì)，用于入射角調(diào)整n EP3View軟件，用于儀器控制和基于Windows?的數(shù)據(jù)分析 多重關(guān)注區(qū)域及Δ，Ψ繪圖n 可通過(guò)局部網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制和服務(wù) 技術(shù)參數(shù) 原理 PCSA 配置的自動(dòng)回零（ Auto-Nulling ）圖像橢圓光度法 橢圓光度分辨率 Delta/Psi 精度 0.001 deg 　　精度 0.01 deg （依賴(lài)于樣品與測(cè)量條件） 立體分辨率 1~35μm （平面解析精度： 1μm ，縱向解析精度： 1 nm ） 激光器波長(zhǎng) 標(biāo)準(zhǔn)為 : 532 nm 　可選 405, 488, 514, 543, 594, 633, 650, 690, 785, 830, 905, nm 靈敏度 0.05~0.2nm 解析時(shí)間 快， 22×73mm 在 1.2μm 精度下只需不到一分鐘的時(shí)間 圖像系統(tǒng) 768 x 572 像素 CCD 照相機(jī) 電子組件 內(nèi)置基于 Pentium 芯片的控制器，帶 Matrox Meteor II 抓圖器； 內(nèi)置 Linux 操作系統(tǒng)；通過(guò) 100M 以太網(wǎng)與主機(jī)相連 電源 電壓： 100 – 240 VAC, 50/60Hz zui大電流 : 10 A