產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機(jī)|培養(yǎng)箱


化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

橢偏儀在平板顯示行業(yè)中應(yīng)用

來源:武漢頤光科技有限公司   2025年02月08日 10:35  


 

01平板顯示行業(yè)測量介紹

02平板顯示行業(yè)的量測意義

03平板顯示行業(yè)的測量解決方案

 01 平板顯示行業(yè)測量介紹

平板顯示器件于20世紀(jì)60年代出現(xiàn),主要包括液晶顯示器、發(fā)光二極管、等離子顯示板、電致發(fā)光顯示器等。目前液晶顯示LCD(Liquid Crystal Display)與有機(jī)電致發(fā)光顯示OLED(Organic Light-Emitting Diode)為平板顯示行業(yè)主要顯示技術(shù),占據(jù)行業(yè)絕大部分產(chǎn)值。

檢測是面板生產(chǎn)過程的必要環(huán)節(jié)。面板顯示檢測的作用是在面板顯示器件的生產(chǎn)過程中進(jìn)行光學(xué)、信號、電氣性能等各種功能檢測,發(fā)現(xiàn)制程中的缺陷,避免產(chǎn)品流片至后段造成更大損失。以市占率最大LCD為例,平板顯示器件主要分為彩膜Color Filter(CF)、陣列 (Array)、成盒(Cell)和模組(Module)四個制程,生產(chǎn)制程中均需要相應(yīng)的檢測。

 

  02平板顯示行業(yè)的量測意義

CF和Array制程中,成膜質(zhì)量的好壞直接關(guān)系到產(chǎn)品性能和合格率。以CF制程為例,主要由黑色矩陣(Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、平坦層(Overcoat)、支撐柱(Photo Spacer)、配向膜(Polyimide Film)組成,結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。

img1 

1 CF側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖

CF制程膜層的光學(xué)性能和膜厚,與TFT-LCD的亮度(出光效率)、對比度等產(chǎn)品光學(xué)性能與直接相關(guān)。黑色矩陣BM(Black Matrix),其主要作用是隔絕RGB色阻防止混色,以及防止漏光,因此BM材料要求透過率低。制作BM的材料一般有Cr、CrOx及黑色樹脂等。RGB是顯示的三原色,RGB用于組成和顯示所有其他顏色,如圖2所示。當(dāng)白光照射時,色阻會反射單色光(RGB),色阻材料會吸收其余波段的光,形成所需顏色。PI配向膜是TFT-LCD顯示屏的關(guān)鍵材料,該材料在成盒(Cell)工段被涂覆在基板與彩膜上,通過摩擦配向或光配向后,用以協(xié)助液晶分子按特定方向排列。這種結(jié)構(gòu)一般具有多軸光學(xué)性質(zhì),因此表征需要考慮到光學(xué)各向異性。對這些膜層的光學(xué)參數(shù)和厚度進(jìn)行快速、非破壞、準(zhǔn)確的量測能有效提高平板顯示器件的產(chǎn)品性能和合格率,具有重要的意義。

 

img2 

2 RGB三原色

 

03平板顯示行業(yè)的測量解決方案

實物展示

 

 

橢圓偏振光譜法是一種物理測量方法,即使用偏儀(SE)來獲取薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。具有無損傷樣件、靈敏度高和量測速度快等優(yōu)點(diǎn),可精確地表征介質(zhì)膜(如SiOx、SiNx等)、優(yōu)異光電性能的氧化銦錫(ITO)、聚酰亞胺(PI)以及非晶硅(a-Si)等單層或多層薄膜的膜厚及材料的光學(xué)特性(如折射率、組分、各向異性和均勻性),是一種可以滿足以上量測需求的解決方案。

img3 

 

型號

ME-Mapping

光斑大小

大光斑:2-4mm
微光斑:200μm/100μm/50μm

測量光譜

16*16階穆勒矩陣

波段

380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm

單次測量時間

1-8s

入射角

65°

焦方式

自動找焦

Mapping行程

XY: 200*200mm

XY: 300*300mm

支持樣件尺寸

2-8寸(可擴(kuò)展至12寸)

產(chǎn)品優(yōu)勢

  集成激光測距儀找焦、多尺寸自動Mapping,最佳探測光強(qiáng)自動變檔切換,圖像識別與定位,一鍵生成報告等功能,極大的提升設(shè)備智能便利化程度。

 

 

 

img4 

型號

SE-VM-L

光斑大小

微光斑:200μm

測量光譜

16*16階穆勒矩陣

波段

380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm

單次測量時間

1-8s

入射角

手動變角45-90°,5度間隔°

焦方式

手動找焦

支持樣件尺寸

2-8

產(chǎn)品優(yōu)勢

  高性價比光學(xué)偏測量解決方案,緊湊集成化,人機(jī)交互設(shè)計,使用便捷。

 

 

 

 

 

樣件膜層結(jié)構(gòu)實測數(shù)據(jù)

 

 

 

 

黑色矩陣BM

玻璃基底單層BM膜層進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖3

 

 

3 BM膜層結(jié)構(gòu)

 

 

黑色矩陣BM光譜擬合結(jié)果如圖4所示,使用偏建模軟件仿真得到的透過率如圖5所示,滿足工藝預(yù)期。

img5 

4 Glass-BM偏光譜擬合圖

 

img6 

5 仿真BM透過率曲線

 

 

、阻層RGB

玻璃基底單層R進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖6。

 

 

6 R膜層結(jié)構(gòu)

 

R色阻的擬合結(jié)果如圖7所示,測量偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95。其透過率擬合結(jié)果如圖8所示,實測與建模仿真得到的透過率一致。

img7 

7 Glass-R偏擬合光譜曲線

 

img8 

8 Glass-R透過率擬合曲線

 

對樣品進(jìn)行多點(diǎn)測量,R色阻的厚度分布如圖9所示,與參考一致,滿足預(yù)期。

img9 img10

9 Glass-R薄膜wafermap

 

 

 

、配向膜PI

Si或者玻璃基底的單層配向膜PI進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖10。

 

 

10 PI膜層結(jié)構(gòu)

 

配向膜PI偏光譜擬合結(jié)果如圖11所示,測量偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95,其nk各項異性表征如圖12所示。

img11 

11 配向膜偏光譜擬合曲線

 

img12 

12 PInk各項異性曲線

 

 

 

 


 



免責(zé)聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618