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化工儀器網(wǎng)>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>WS-1000 Laurell 濕法刻蝕設備

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WS-1000 Laurell 濕法刻蝕設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 Laurell
  • 型號 WS-1000
  • 產地 美國
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/5/16 15:24:54
  • 訪問次數(shù) 4391

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半導體化工領域專業(yè)實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優(yōu)質專業(yè)的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。



勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 化工,電子

    WS-1000Wet Station濕法刻蝕設備,全白色聚丙烯構造,可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機,排放簡便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000M濕法刻蝕設備,WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造,安裝簡便,易于拆卸,更便于操作者控制。

一、濕法刻蝕設備功能:
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水,溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干

 

二、濕法刻蝕設備特點:
● 全PP材質構造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
● 有排孔的濕站操作臺 (易清潔)
● 特殊設計的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
● 帶流量計的排液管道
● 各類組件的隔離設計(散熱原件,泵浦和壓力容器等)

 

三、濕法刻蝕設備材料選擇:
可以根據(jù)應用選擇更高級的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能,耐化學藥品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合Z嚴格的FMRC 4910測試標準,滿足多方面條件下的難燃性,自熄特點和*燃燒。這種*材料也達到或超過產生低煙和Z小毒副產品的檢測標準。



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