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Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)PX 3564
PSE V300深硅刻蝕機PX 1800
濕法刻蝕顯影機-勻膠機PX 2762
SWC-4000兆聲晶圓(掩模版)清洗機PX 3244
CESx124UltraT進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)PX 3380
濕電子化學品用PFA瓶耐腐蝕透明pfa取樣瓶PX 4540
EDC-650-23濕法刻蝕機EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-XPX 2468
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)PX 3564
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)PX 3564
IRIDIA極速成像準分子 激光剝蝕系統(tǒng)PX 3564
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)PX 3564
Fusions Diode 激光熔融系統(tǒng)PX 3564
RIE-1C緊湊型刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-800BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1800
RIE-800iPB電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1800
GSE C200多功能刻蝕機PX 1800
NMC 612G12英寸金屬刻蝕機PX 1800
GDE C200系列高密度 刻蝕機PX 1800
customized硅片腐蝕清洗機PX 1800
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機PX 1800
NMC 508系列CCP介質(zhì)刻蝕機PX 1800
NMC 508系列ICP 刻蝕機PX 1800
RIE-400iPB深硅刻蝕設(shè)備PX 1800
PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1800
PlasmaPro 80 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1800
HSE系列深硅刻蝕機PX 1800
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機PX 3244
晶片腐蝕機PX 0
RHXX-AC200wafer acid etchingPX 0
WS-1000MLaurell-WS半導體濕法刻蝕系列PX 3380
WS-1000Laurell 濕法刻蝕設(shè)備PX 3380
EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機PX 3380
EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDCPX 3380
2英寸陶瓷片用四氟花籃耐腐蝕聚四氟清洗架PX 4540
M+100-E濕法腐蝕機PX 0
M+500-EE銦絲拋光機PX 0
美國Laurell濕法刻蝕顯影機 EDC-650Mz-8NPPPX 0
濕法腐蝕清洗系統(tǒng)PX 0
NR7-1000P NR9-1000PFuturrex紫外負性光刻膠NR7-1000PPX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
Fusions CO2 激光熔融系統(tǒng)
Excite Pharos 飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
Analyte Excite 準分子激光剝蝕系統(tǒng)
IRIDIA極速成像準分子 激光剝蝕系統(tǒng)
LSX-213 G2+ 固態(tài)激光剝蝕系統(tǒng)
Fusions Diode 激光熔融系統(tǒng)
深硅刻蝕機
上海衡平儀器儀表有限公司
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