美國野馬真空系統(tǒng)磁控濺射多功能鍍膜設備

　　真空室選項——野馬的高度可配置的解決方案從一個室選擇基于數(shù)量的來源。高達8沉積位置可以配置一系列的沉積來源和電源配置。

　　野馬的系統(tǒng)可以配置為單沉積技術(shù)，包括或者通過結(jié)合沉積方法混合解決方案就多達8個不同的沉積方法。標準涂層面積24英寸或48英寸的高度、24-38英寸直徑與單一旋轉(zhuǎn)或多個行星自轉(zhuǎn)。

　　系統(tǒng)平臺——高度可配置的產(chǎn)品組可以使廣泛的摩擦學過程配置和簡單的升級或改造,為未來的應用?；鞠到y(tǒng)包含了所有的工業(yè)設計的特性,使得野馬真空系統(tǒng)成功的兼容許多行業(yè)。

　　推動工業(yè)控制平臺與配方，觸摸屏工業(yè)PC接口

　　工業(yè)系統(tǒng)設計符合人體工程學的證明維護和確保運行正常

　　高正常運行時間的解決方案，利用一級零部件供應商與支持

　　單或雙門設計與集成的工具來zui大化的生產(chǎn)能力

　　規(guī)格

　　●雙層不銹鋼水夾套真空室設計。

　　●快速裝卸屏蔽罩和行星轉(zhuǎn)臺的設計。

　　●行星旋轉(zhuǎn)襯底轉(zhuǎn)臺分成三層。

　　●多個屏蔽輻射元素為襯底加熱與熱電偶反饋提供允許溫度監(jiān)測與控制基板的溫度zui大的高達600°C。

　　●2 x直流和交流線性輝光放電陣列,用于等離子體預處理、離子輔助沉積或PACVD面涂層。

　　●靈活的單(1)到6(6)單獨關(guān)閉陰極靶位可供各種濺射、蒸發(fā)& PACVD沉積源包括:

　　1、的高功率密度(高達30 w/平方厘米)、不平衡或平衡磁控管為直流、脈沖直流、交流、射頻和HIPIMS濺射操作。

　　2、矩形和圓形80 - 200 a引導電弧蒸發(fā)陰極。

　　3、熱絲、脈沖直流、交流和射頻PACVD。

　　4、熱、電子束蒸發(fā)。

　　5、直流、脈沖直流、交流或射頻襯底偏置電壓為定制離子輔助增長遞送。

　　●標準矩形陰極尺寸的6 x 30英寸和6 x 54英寸(其他請求)。

　　●PLC / Windows PC控制與綜合顏色觸摸屏。多個用戶選定的配方可以從人機界面,幾乎無限的配方存儲在主機電腦。網(wǎng)絡/調(diào)制解調(diào)器進行遠程訪問“實時”診斷運行或過程監(jiān)控。

　　●多個質(zhì)量流量控制器(通常是Ar、N2 CxHy,O2和備用)工作&活性氣體輸送和凈化控制。

　　●干燥劑排氣作為標準。

　　●標準濺射&弧電源(額外的制造商和配置要求):

　　●直流電源- 5-30KW甚至高達180千瓦大功率電源

　　●脈沖直流電源- 5-30KW

　　●AC /中頻功率- 5 - 150千瓦

　　●射頻功率- 5-15KW

　　●HIPIMS(高功率脈沖磁控濺射)力量——40千瓦(高功率峰值高達8 mw)

　　●引導弧- 80 a,120或200一個

　　標準泵的配置和選擇:

　　●1 x愛德華茲GXS250/2600粗&羅茨泵方案。

　　●2 x愛德華茲STP-iXA 2206 5軸,磁懸浮,渦輪分子泵。

　　可選的:

　　●Leybold SV 630或1200機械水泵WH4400 SV與羅茨泵。

　　●WH4400 Leybold雙干泵與羅茨泵

　　●20英寸的瓦里安擴散泵

　　●MaxCool 4000 Polycold

　　●其它要求

　　●生產(chǎn)&自動化選項:

　　●單室門、手動操作。

　　●雙室門、手動操作。

　　●簡單加載/卸載行星旋轉(zhuǎn)唱盤&攜帶手推車。

　　●單或2位置*自動轉(zhuǎn)盤可以水平或垂直地提出根據(jù)夾具。