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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機械設備>真空設備>真空獲得設備>TSV1200-S 磁控濺射鍍膜機

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TSV1200-S 磁控濺射鍍膜機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市利達科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 TSV1200-S
  • 產(chǎn)地 TSV
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2017/7/26 8:38:35
  • 訪問次數(shù) 582
產(chǎn)品標簽

磁控濺射鍍膜機鍍膜機

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


美國德威爾儀器儀表制造有限公司(Dwyer Instruments,Inc.)是一家對差壓、溫度、液位和流量的測量,變送和控制等方面擁有眾多精密儀器儀表產(chǎn)品并且在價格上有強競爭力的儀器儀表制造公司。我們擁有眾多**的品牌系列,例如,Magnehelic®Photohelic®   差壓儀表和Spirahelic®壓力儀表,Rate-Master®,Mini-Master®Visi-Float®流量儀表,Slack-Tube®Flex-Tube®壓力計,Dwyer®超微差壓開關,還有Flotect®流量/液位開關,Hi-Flow®控制閥,Self-tune®溫度控制儀和Iso-Verter®信號轉換/隔離器等等,現(xiàn)在公司把德威爾(Dwyer)產(chǎn)品分為Mercoid,W.E.Anderson,Proximity ControlsLove Controls四大部分,這些產(chǎn)品廣泛應用于暖通,空調(diào),食品,制藥,生物工程,智能樓宇,電廠,化工,水處理,環(huán)境監(jiān)測,工業(yè)制造等領域。建立于1931年的美國德威爾儀器儀表制造有限公司(Dwyer Instruments,Inc.)1955年時把制造總部從伊利諾斯州的芝加哥市遷移到印地安那州的密歇根市并建立起新的更大,更加完善的制造工廠和輔助設施。以后公司又在印地安那州的瓦卡瑞薩,南懷特里,肯斯卜瑞,沃爾肯特建了四個工廠接著又在加利福尼亞州的阿納海姆,明尼蘇達州的費格斯 費爾斯,密蘇里州的堪薩斯城,和波多黎各的那加波建立了制造工廠。除了制造和銷售高質(zhì)量和精密儀器儀表,德威爾(Dwyer)建立了標準并且完善的客戶服務系統(tǒng)——包括具有競爭力的價格,知識淵博,禮儀周到的技術支持來保證持續(xù)的*的合作關系。


深圳市利方達科技有限公司是美國Dwyer公司*一級代理商,負責Dwyer儀器儀表在中國的銷售。

美國Dwyer儀器儀表全線代理
歐美真空設備和核心部件代理

磁控濺射鍍膜機

產(chǎn)品型號:TSV1200-S

用途:磁控濺射PVD鍍膜,氮化鈦(TiN)、氮碳化鈦(TiCN)、氮化鋯(ZrN)、氮化鉻(CrN)、氮化鋁鈦(TiAIN)、碳化鈦(TiC)等

基材:不銹鋼,鋅合金,塑料

應用:手機外殼,MP3外殼,數(shù)碼相機外殼,各種標牌的裝飾改性加硬鍍膜

顏色:白色,金色, 銀色, 黑色 , 蘭色等

基本參數(shù):

● 真空室尺寸:1210mm(直徑)×1200mm(高);

● 抽氣時間速:大氣到5×10-3Pa20min (空載, 冷態(tài),潔凈;

● zui高烘烤溫度:300

● 采用側面對開門方式,便于工件裝卸;

2臺φ400mm口徑分子泵、1ZJP300型羅茨泵, 22X-70型機械泵抽氣;

● 一套公、自轉工轉機構,采用下驅(qū)動方式的二維平面行星機構;自轉軸20根;

● 所有驅(qū)動引入采用帶水冷套磁流體密封;

● 四對磁控濺射靶平行安裝且成圓周分布,靶材尺寸:910mm×120mm(長×寬);

4路進口質(zhì)量流量計進氣;

● 預濺射小車擋板,控制預濺射工藝;

● 三臺30KW中頻電源及一臺30KW脈沖偏壓電源;

● 控制系統(tǒng)采用觸摸屏上位機(工控機)+下位機(PLC)的控制形式

控制系統(tǒng)有手動和自動,全系統(tǒng)具有互保護, 泵閥互鎖。

 

主要技術參數(shù)和配置:

(一)   真空系統(tǒng)技術指標

1.       極限真空:優(yōu)于2x10-3Pa;

2.       抽速:大氣到5x10-3Pa30mm(空載、冷態(tài),潔凈);

  3.  壓升率:小于0.5Pa/hr.

 真空室和真空系統(tǒng)配置

  1.度模式尺寸:1210mm(直徑)x1200mm);

  2.采用側面對開門方式,便于工件裝卸;

  3.外壁通冷卻水,冷卻水管采用半圓管焊接方式,焊縫美觀、平整;

  4. 3個觀察窗口,左右門上各一個,室體正前方一個;

  5. 抽氣室內(nèi)安裝一個旋轉擋氣擋板,旋轉角度范圍0~90°

  6.兩臺φ400mm口徑分子泵;

  7. 1ZJP300型羅茨泵,增加氣動旁通閥;

  8. 22x-70型機械泵,一臺為粗抽泵,一臺為分子泵維持泵;

  9. φ400mm口徑高真空氣動閥門2套;

(三)工件架以及驅(qū)動裝置

  1. 一套公、自轉工轉機構,采用下驅(qū)動方式的二維平面行星機構;自轉軸20根;

  2. 轉速0-8/分鐘可控可調(diào);

  3. 驅(qū)動引入采用帶水冷套磁流體密封;

 真空測量系統(tǒng)

  1. 采用一臺數(shù)字式復合真空計;

  2.一路高真空測量,兩路低真空測量(室體一路,低真空管道一路)

(五)磁控濺射陰極靶

  1. 四對磁控濺射靶(四只外裝靶,四只內(nèi)裝靶,共八只靶)

  2. 磁控濺射靶靶材尺寸:912mm x120mm(長x寬)

 加熱系統(tǒng)

  1. 6只加熱器,沿室壁圓周分布,每只功率3kw,加熱總功率18kw;

  2. 金屬鎧裝熱電偶1只,安裝于室體頂部;

  3. zui高烘烤溫度300,能實現(xiàn)溫度自動控制;

  4. 加熱器引入采用金屬密封。

 (七)水冷卻系統(tǒng)

   1,真空室冷卻;

2. 八個靶體冷卻;

 3. 分子泵羅茨泵冷卻;

 4.冷卻水測溫,并報警。

(八)供氣系統(tǒng)

 1. 4路進氣(Ar,N2,O2,C2H2),1個混氣罐;

 2. 4AE質(zhì)量流量計,4只電磁截止閥,4只手動針閥;

 3. 氣路管道采用外徑1/4”不銹鋼管,配均勻布氣管;

 預濺射擋板

 1. 擋板邊緣折邊,增加強度,避免烘烤熱變形;

 2. 驅(qū)動引入密封采用磁流體密封。

 (十)濺射及偏壓供電系統(tǒng)

 1. 330k濺射電源;

 2. 一套PLS-30K型脈沖偏壓電源

十一控制單元

1,  控制系統(tǒng):上位機(工控機)+ 下位機(PLC)控制形式,工控機向PLC發(fā)布命令,PLC去控制真空系統(tǒng),加熱系統(tǒng),轉動系統(tǒng)。

2,  真空控制有手動和自動,自動包括四個過程:真空、連續(xù)、取件、停機。

3,  靶控制也有手動和自動,自動主要以時間和功率來控制能保存和調(diào)用工藝參數(shù)。

4,  報警系統(tǒng)有泵、靶斷水報警,系統(tǒng)氣壓低報警等,全系統(tǒng)具有防爆、互保護、泵閥互鎖。

  (十二)設備動力要求

水源:工業(yè)軟水,水壓0.2~0.3MPa,水量`50L/min,進水溫度≤25

氣源:氣壓0.6MPa;

電源:三相五線制380V,50Hz,波動范圍±5%:功率≥60kw,zui大150kw

十三占地面積3200X 4200X 2100

 

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