NIE-4000 IBE/離子束刻蝕系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 那諾-馬斯特中國有限公司
- 品牌
- 型號 NIE-4000
- 產地 美國
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2018/5/10 17:22:15
- 訪問次數(shù) 353
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IBE/RIBE離子束刻蝕/反應離子束刻蝕
如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量,否則光刻膠將變得非常難以去除。
NANO-MASTER(那諾-馬斯特)技術已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時,旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。
產品特點:
- 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
- 16cm DC離子槍1000eV,500mA, 氣動不銹鋼遮板
- 離子束中和器
- 氬氣MFC
- 6”水冷樣品臺
- 晶片旋轉速度3、10RPM,真空步進電機
- 步進電機控制晶圓片傾斜
- 手動或自動上下載晶圓片
- 典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
- 6”范圍內,刻蝕均勻度+/-3%
- 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
- 配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
- 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 菜單驅動,4級密碼訪問保護
- 完整的安全聯(lián)鎖