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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>去膠機(jī)> NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))

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NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2023/11/13 11:09:12
  • 訪問次數(shù) 3962

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那諾中國有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質(zhì)譜儀,包含飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥

Plasma Asher等離子去膠機(jī)

NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述:NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))產(chǎn)品特點

  • 緊湊型立式系統(tǒng)
  • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
  • 兼容100級超凈間使用
  • 淋浴頭、ICP或微波等離子源
  • 旋轉(zhuǎn)樣品臺
  • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
  • 全自動或手動RF調(diào)諧
  • z多可支持4MFC帶電拋光的氣體管路
  • PC計算機(jī)控制的氣動閥
  • 帶密碼保護(hù)的多級訪問控制
  • 基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制
  • 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
  • 250 l/s的渦輪分子泵
  • 極限真空為5x10-7Torr
  • 完整的安全聯(lián)鎖

NPC-3000(M)等離子去膠機(jī)應(yīng)用:

  • 有機(jī)物以及無機(jī)物的殘留物去除
  • 光刻膠剝離或灰化
  • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
  • 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架
  • 提高黏附性,消除鍵合問題
  • 塑料的表面改型:O2處理以改進(jìn)涂覆性能
  • 產(chǎn)生親水或疏水表面

 



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