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GL300 Cluster200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線
納米壓印技術(shù)咨詢(xún)PX 1833
HoloPrinter納米壓印-光刻機(jī)PX 2917
EVG610納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7415
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機(jī)PX 3385
GL6 R&D納米壓印系統(tǒng)PX 1900
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機(jī),多光子光刻PX 4497
納米壓印系統(tǒng)PX 3387
4英寸納米壓印機(jī)PX 1895
納米壓印光刻膠PX 3525
Obducat納米壓印儀EITRE® 3PX 2804
HoloPrint uniA6 DT滾筒式納米壓印機(jī)PX 3724
NX-A10/A20/B100光刻機(jī)NX-B200/1000/2000/2500/2600PX 2358
納米壓印工藝開(kāi)發(fā)PX 1833
納米壓印小批量加工PX 1833
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理PX 1833
Primer納米壓印增粘劑PX 1833
納米壓印膠PX 1833
工作模具/子模具復(fù)制材料PX 1833
拼版復(fù)制模具PX 1833
復(fù)制模具PX 1833
標(biāo)準(zhǔn)壓印模具PX 1833
定制納米壓印模具PX 1833
UniHotplate桌面型熱板PX 1833
GL150 PreNIL/GL300 PreNIL全自動(dòng)納米壓印光刻預(yù)處理設(shè)備PX 1833
GL Spin+HP旋涂勻膠設(shè)備+熱板PX 1833
GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備PX 1833
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線PX 1833
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
GL300 MLA全自動(dòng)紫外納米壓印光刻設(shè)備PX 1833
納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)PX 2917
納米壓印設(shè)備PX 0
EVG7300多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7415
EVG720自動(dòng)化SmartNIL紫外納米壓印光刻系統(tǒng)PX 7415
EVG770 NTDymek岱美儀器分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)PX 7415
HERCULESDymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng)PX 7415
EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)PX 7415
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
透鏡三維壓印機(jī)
紫外納米壓印機(jī)
微納米3D打印機(jī),多光子光刻
納米壓印技術(shù)咨詢(xún)
納米壓印工藝開(kāi)發(fā)
納米壓印小批量加工
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理
Primer納米壓印增粘劑
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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