CMSD2000/4 實驗室石墨烯研磨分散機

實驗室石墨烯研磨分散機是 研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

實驗室石墨烯研磨分散機是 溶劑剝離法的原理是將少量的石墨分散于溶劑中形成低濃度的分散液，利用超聲波的作用破壞石墨層間的范德華力，溶劑插入石墨層間，進行層層剝離而制備出石墨烯。此方法不會像氧化-還原法那樣破壞石墨烯的結(jié)構(gòu)，可以制備高質(zhì)量的石墨烯。缺點是成本較高并且產(chǎn)率很低，工業(yè)化生產(chǎn)比較困難。有可能你會問  一般國內(nèi)做碳管或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機   超聲波分散機等等？  球磨機或者砂磨機他們偏重研磨炸   會破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機偏重  分散剝離  。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。

是

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
  

    納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在

在設計上的突出優(yōu)點在于：

1. 可更換式加工模塊，實現(xiàn)分散、均質(zhì)、乳化、懸浮、濕磨、 粉液混合混合等多種功能。

2. 專為實驗室模擬工業(yè)管線式生產(chǎn)而設計，從中試到生產(chǎn)，無需重新調(diào)整工藝參數(shù) 。

3. 軸封材料為PTFE，易于更換。

4. 可配置變頻控制柜，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速及流量。

5. 拆卸方便，容易清洗。

6. 設備設計合理，方便實用。

         CMD2000/4（PP系列）為研磨分散機的技術參數(shù)：功率4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 50 升/小時（水），重量55KG, 尺寸 (長寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進行冷卻。通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設計符合3A健康標準，是中試和小批量生產(chǎn)的*選擇。

的

IKN石墨烯研磨設備采用德國的高速研磨分散技術，通過超高
轉(zhuǎn)速（zui高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。

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