半導(dǎo)體設(shè)備;清洗設(shè)備;半導(dǎo)體清洗設(shè)備;石英管清洗機(jī);臺(tái)面腐蝕機(jī);顯影機(jī);晶片清洗機(jī);爐前清洗機(jī);硅片腐蝕機(jī);硅片清洗機(jī);手動(dòng)清洗臺(tái);通風(fēng)櫥;化學(xué)試驗(yàn)臺(tái);超聲波清洗機(jī);整流器;硅片花籃;滾筒;化學(xué)儲(chǔ)罐;儲(chǔ)槽;太陽(yáng)能電池清洗設(shè)備,半導(dǎo)體清洗設(shè)備,微電子工藝設(shè)備及清洗設(shè)備;太陽(yáng)能電池片清洗刻蝕設(shè)備;微電子半導(dǎo)體清洗刻蝕設(shè)備;LCD液晶玻璃基板清洗刻蝕設(shè)備;LED晶片清洗腐蝕設(shè)備;硅片切片后清洗設(shè)備;劃片后清洗設(shè)備;太陽(yáng)能電池制絨酸洗設(shè)備;硅晶圓片清洗甩干機(jī);電鍍?cè)O(shè)備;工程塑料加工
該設(shè)備廣泛應(yīng)用于LCD液晶行業(yè),設(shè)備整體采用德國(guó)10mm (5MM)NPP板 熱彎/焊接組合加工;設(shè)備槽體實(shí)現(xiàn)了腐蝕或后殘留在片子上的化學(xué)液及污染顆粒的沖洗祛除功能。
它由安裝在槽體底部的快排閥、DI注入孔(包括氮?dú)夤呐荩┘绊敳孔笥覂蓚?cè)的DI噴嘴實(shí)現(xiàn)槽體的快速注入與排放。設(shè)備快排沖洗槽(QDR)的工作過(guò)程由獨(dú)立K200型控制器保證。它包括工藝時(shí)間、沖洗次數(shù)設(shè)置、工作完成提示以及過(guò)程中的故障報(bào)警、狀態(tài)提示等功能。整臺(tái)設(shè)備外型美觀,經(jīng)濟(jì)實(shí)用。