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微波等離子去膠機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京匯德信科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 德國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2016/9/27 15:19:17
  • 訪問次數(shù) 497
產(chǎn)品標(biāo)簽

去膠機(jī)微波等離子去膠機(jī)

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


  自1999年成立以來,北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠信、專業(yè)、創(chuàng)新”的宗旨,將上*的納米科學(xué)技術(shù)設(shè)備引進(jìn)到國(guó)內(nèi)。我們與德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)、德國(guó)明斯特大學(xué)、德國(guó)斯圖加特大學(xué)、德國(guó)卡爾斯魯爾納米中心及德國(guó)Max-Planck研究所等科研院所有著緊密的合作,并系統(tǒng)地代理了德國(guó)Raith(電子束光刻系統(tǒng))、Novocontrol(寬頻介電阻抗譜儀)、荷蘭TSST(脈沖激光沉積系統(tǒng))等多家*產(chǎn)品。產(chǎn)品覆蓋了微納米制造、檢測(cè)、分析等相關(guān)領(lǐng)域。產(chǎn)品已經(jīng)被國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)使用,并得到用戶*好評(píng)和認(rèn)可。

 

  作為幾十家的國(guó)內(nèi)*代理,匯德信已建立起以客戶為中心,為客戶解決科研需求的銷售團(tuán)隊(duì)和專業(yè)的技術(shù)支持隊(duì)伍。公司不定期地組織技術(shù)人員出國(guó)培訓(xùn),提升技術(shù)水平,更好地為客戶提供技術(shù)解決方案。

 

  我們經(jīng)過多年的技術(shù)積累,并與國(guó)內(nèi)用戶、國(guó)外廠商緊密合作,共同研發(fā)具有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高科技含量的科研儀器。從“代理”產(chǎn)品走向 “研發(fā)”產(chǎn)品,邁出了具有重大意義的一步。2014年我們?cè)诔V萁⒘顺V堇讱W儀器有限公司,致力于開發(fā)研制符合國(guó)內(nèi)用戶需求的高品質(zhì)、高性價(jià)比的薄膜沉積設(shè)備。

 

  我們本著將上*的科技和企業(yè)引進(jìn)到國(guó)內(nèi)的理念,在德國(guó)對(duì)華經(jīng)濟(jì)技術(shù)合作中心(IWC)、江蘇省政府、德國(guó)北威州共同努力下,在江蘇省常州市創(chuàng)建了江蘇中德創(chuàng)新中心有限公司,中心憑借*理念和掌握大量的德國(guó)*和企業(yè)資源,重點(diǎn)抓住“中德合作”和“創(chuàng)新”這兩個(gè)主軸,確保實(shí)現(xiàn):知識(shí)轉(zhuǎn)化為技術(shù);實(shí)驗(yàn)室走向市場(chǎng);技術(shù)變?yōu)楫a(chǎn)品;科技人才成為創(chuàng)業(yè)者。

分子束外延系統(tǒng),脈沖激光沉積系統(tǒng),電子束光刻/聚焦離子束系統(tǒng),紫外光刻機(jī),去膠機(jī),寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等

去膠工藝是微加工實(shí)驗(yàn)中一個(gè)非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后,都需要對(duì)光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對(duì)樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國(guó)ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗(yàn),致力于給您提供專業(yè)的微波等離子去膠機(jī),并提供專業(yè)的服務(wù)。

臺(tái)式去膠機(jī)       柜式去膠機(jī)

  桌面式微波等離子去膠機(jī)            立式

 

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

  • 去膠快速*
  • 對(duì)樣片無損傷
  • 操作簡(jiǎn)單安全
  • 設(shè)計(jì)緊湊美觀
  • 產(chǎn)品性價(jià)比高

 

產(chǎn)品用途:

  • 高劑量離子注入光刻膠的去除
  • 濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
  • MEMS中犧牲層的去除
  • 去除化學(xué)殘余物
  • 清除浮渣工藝

 

SU-8膠的去除:

 

MEMS工藝中經(jīng)常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩(wěn)定,其zui致命的缺點(diǎn)就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您*德國(guó)Alpha Plasma專業(yè)的SU-8,該設(shè)備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學(xué)反應(yīng),實(shí)現(xiàn)快速去除SU-8功能。同時(shí)設(shè)備中還集成了溫控系統(tǒng),去膠過程中對(duì)襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結(jié)構(gòu)的完整性,zui終實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗(yàn)收指標(biāo)為1μm/min,實(shí)驗(yàn)中可達(dá)到幾個(gè)微米。因此這款專業(yè)的SU8去膠機(jī)是MEMS去膠工藝的理想選擇。

 

更多信息,請(qǐng)查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=400 

 



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