NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應(yīng)將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現(xiàn)到大基片上。

NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)特點：NLD-4000（ICPM）是一款緊湊型獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶授權(quán)保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設(shè)計，并提供了強大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。應(yīng)用領(lǐng)域包含半導體、光伏、MEMS等。NLD-4000（ICPM）系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達7個50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應(yīng)物，同時帶有N2或者Ar作為運載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

選配：NLD-4000（ICPM）系統(tǒng)的選配項包含自動L/UL上下載(用于6”基片)，臭氧發(fā)生器，等等。

應(yīng)用：

Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應(yīng)用.
Nano laminates納米復(fù)合材料

NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)

公司介紹 主營產(chǎn)品

FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司。基于 “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家，科學開創(chuàng)美好未來。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu)。

在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！

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FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司。基于 “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家，科學開創(chuàng)美好未來。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu)。

在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！