NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性...

薄膜反射儀是一款相對較低成本和操作簡單的工具。基于陣列的探測器系統(tǒng)保證快速測量，可升級到MSP（顯微分光光度計）系統(tǒng)，SRM映射系統(tǒng)，多通道系統(tǒng)，大點的...

光學(xué)接觸角測量儀可根據(jù)客戶的需求，針對不同的工作測試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請咨詢德國韋氏納米系統(tǒng)

Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司...

高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對...

基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清...

PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。

等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

液相擴散技術(shù)（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動擴散去除水分，不留...

PDC-002等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔...

刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是一套脫機系統(tǒng)，在一個封閉的清洗室內(nèi)清洗網(wǎng)紋輥，并由計算機控制。該系統(tǒng)包含一個回收裝置，去除廢料，清洗介質(zhì)的表面，并允許塑料介質(zhì)可以重復(fù)多次使用...

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機模型結(jié)合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監(jiān)測更精確的定量控制。

Harrick高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡單...

Model 308 便攜式光功率計 ●精確性 ●可靠性 ●可重復(fù)性 ●數(shù)顯直讀 ●便捷性

45年來，OAI始終是紫外能量測試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測量裝置FLX系列可從這...

ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學(xué)和研究機構(gòu)所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學(xué)和研究機構(gòu)所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

AS-One系統(tǒng)有兩種型號： AS-One 100 系統(tǒng)或AS-One 150 系統(tǒng)該快速退火爐是專門為滿足大學(xué)、研究實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)的需求而研制的，高可靠且...