SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
- 公司名稱 那諾中國(guó)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/11/13 13:29:53
- 訪問(wèn)次數(shù) 2577
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ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，晶圓清洗機(jī)，PA-MOCVD，飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 |
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SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)概述：
兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無(wú)損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)應(yīng)用：
- 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
- Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
- CMP處理后的晶圓片清洗
- 晶圓框架上的切粒芯片清洗
- 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
- 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
- 掩模版空白部位或接觸部位清洗
- X射線及極紫外掩模版清洗
- 光學(xué)鏡頭清洗
- ITO涂覆的顯示面板清洗
- 兆聲輔助的剝離工藝
特點(diǎn)：
- 臺(tái)式系統(tǒng)
- 無(wú)損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
- 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
- 微處理機(jī)自動(dòng)控制
- IR紅外燈
選配項(xiàng)：
- 掩模版或晶圓片夾具
- PVA軟毛刷清洗
- 化學(xué)試劑清洗(CDU)
- 氮?dú)怆x子發(fā)生器
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