官方微信|手機(jī)版

產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會(huì)展

發(fā)布詢價(jià)單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設(shè)備>濕法腐蝕/刻蝕設(shè)備> SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)

分享
舉報(bào) 評(píng)價(jià)

SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 那諾中國有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 美國
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/8/12 14:32:03
  • 訪問次數(shù) 2038

聯(lián)系方式:吳運(yùn)祥查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!



那諾中國有限公司專注于為大中華區(qū)域(包括中國大陸、香港、澳門和中國臺(tái)灣)的高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)與生產(chǎn)等企業(yè)機(jī)構(gòu)提供高性能、高性價(jià)比、定制化的薄膜工藝加工設(shè)備及科學(xué)分析檢測(cè)儀器。


那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備(包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機(jī)等)。


那諾中國提供英國KORE基于飛行時(shí)間的質(zhì)譜儀,包含飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)、質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)(PTR)質(zhì)譜儀、電子轟擊電離(EI)質(zhì)譜儀等。





ALD,PECVD,RIE,磁控濺射,熱蒸鍍,電子束,離子束,晶圓清洗機(jī),PA-MOCVD,飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)

兆聲濕法刻蝕技術(shù)

SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī):兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),用于*進(jìn)的無損兆聲清洗??梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng),可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力,提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。

通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù),系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升,從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去,而把回附的數(shù)量降到了z低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢(shì),*進(jìn)的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會(huì)有更大數(shù)量的顆?;馗剑⑶乙虼诵枰嗟娜コ@些顆粒。

此外,NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除,而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用,某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。

SWC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干?!案蛇M(jìn)干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以z低的投資和購置成本來實(shí)現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時(shí)間可以在3-5分鐘內(nèi)完成,具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外,帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對(duì)薄膜無滲漏。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。

SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用:

  • 濕法刻蝕

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗

  • CMP處理后的晶圓片清洗

  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗

  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

  • 帶保護(hù)膜的分劃版清洗

  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗

  • X射線及極紫外掩模版清洗

  • 光學(xué)鏡頭清洗

  • ITO涂覆的顯示面板清洗

  • 兆聲輔助的剝離工藝

特點(diǎn):

  • 機(jī)械手全自動(dòng)上下載片

  • 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片

  • 獨(dú)立系統(tǒng)

  • 無損兆聲,試劑,毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干

  • 微處理機(jī)自動(dòng)控制

  • 化學(xué)試劑滴膠單元

  • 溶劑與酸分離排廢

  • 熱氮

  • 30”D x 26”W 的占地面積

選配項(xiàng):

  • 多系統(tǒng)集成

  • 掩模板或晶圓片夾具

  • 臭氧清洗

  • PVA軟毛刷清洗

  • 高壓DI清洗

  • 氮?dú)怆x子發(fā)生器



化工儀器網(wǎng)

采購商登錄
記住賬號(hào)    找回密碼
沒有賬號(hào)?免費(fèi)注冊(cè)

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個(gè)人信息: