ME1 等離子體去膠機(jī)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京同德創(chuàng)業(yè)科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào) ME1
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/2/16 21:14:33
- 訪問次數(shù) 762
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等離子體去膠機(jī)型號(hào)：ME1
等離子體去膠機(jī)
是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大**院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡(jiǎn)化改進(jìn)而來，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價(jià)格低、使用方便等特點(diǎn)。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大**院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時(shí)有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國(guó)外。
整機(jī)基本配置和性能：
1．激勵(lì)電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計(jì)各1臺(tái)（自動(dòng)匹配可選），帶定時(shí)器1臺(tái)。
2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺(tái)。帶真空計(jì)。
3．載片臺(tái)尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，2路顯示。
5．手動(dòng)控制(可以選擇配置工藝過程自動(dòng)控制)。
6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))
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