PDC-HP Plasma Cl 高功率擴展型等離子清洗機

First-Nano System GmbH 

• 2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）

• 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司   

• 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

• 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場

   

德國韋氏納米系統(tǒng)成立以來，一直為客戶想的更多，Thinking more ?。?！

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems