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新一代的等離子清洗機(jī),外觀大方簡潔,質(zhì)量可靠,性能穩(wěn)定,廣泛應(yīng)
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PT40K-SE等離子清洗機(jī)滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適
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PT40K-BE等離子清洗機(jī)滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適
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PT13M-SE等離子清洗機(jī)滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研
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PT13M-BE等離子清洗機(jī)滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研
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等離子清洗機(jī)C通過引入不同氣體源,還可對基材表面進(jìn)行表面改性,
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簡要描述:原子層蝕刻設(shè)備是一種的蝕刻技術(shù),可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深
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簡要描述:感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻(RIE)的基礎(chǔ)上