臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀
- 公司名稱(chēng) 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/12/10 11:21:42
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1763
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣,綜合 |
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臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀
該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置:
1,研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備,性能優(yōu)異
2,具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求
3,高效的沉積速率,鍍膜時(shí)間快
4, 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的最工具
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀
主要的特點(diǎn)和先進(jìn)的功能:
1, 臺(tái)式,小型,快速
2,全自動(dòng)化程序控制
3,單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜,多路氣體管路
4,共聚焦設(shè)計(jì),靶槍尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,襯底可做到200mm,旋轉(zhuǎn)1-20RPM,以及Load-lock配置
5,配置干泵+分子泵,可達(dá)高真空,適用高品質(zhì)薄膜沉積。
6, 可做直流濺射,射頻濺射,100W射頻偏壓(用于襯底表面清洗)
性能價(jià)格比高?。?/span>