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納米壓印系統(tǒng)-光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/8/23 14:51:46
  • 訪問次數(shù) 2863
產(chǎn)品標(biāo)簽

納米壓印系統(tǒng)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)??祁TO(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

納米壓印系統(tǒng)-光刻機

引入了一個臺式、獨立的NanoImprint平臺。
這個平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺,用于安裝納米壓印室、紫外線固化源和校準(zhǔn)顯微鏡。

它既可以作為納米壓印系統(tǒng),也可以作為傳統(tǒng)的掩模校準(zhǔn)器,同時為整個壓印過程提供可編程的自動控制。


我們納米壓印系統(tǒng)-光刻機的優(yōu)勢
•低于10納米分辨率,99%的產(chǎn)量
•支持硬模具和軟模具
•可變模具和基板尺寸提供的便利性和靈活性
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞,并最大限度地提高每個印記的產(chǎn)量。
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞,并最大限度地提高每個印記的產(chǎn)量。
•適用于各種應(yīng)用的多功能流程:
•光學(xué)設(shè)備、顯示器、數(shù)據(jù)存儲、生物醫(yī)學(xué)
•器件、半導(dǎo)體集成電路、化學(xué)合成和先進材料
•帶觸摸屏用戶界面的可編程PLC允許通過定制參數(shù)進行過程控制
•專有的紫外固化納米壓印膠對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容。

納米壓印系統(tǒng)-光刻機

納米壓印技術(shù)分為三個步驟。
第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段,在硅或其他襯底上加工出所需要的結(jié)構(gòu)作為模板。由于電子的衍射極限遠小于光子,因此可以達到遠高于光刻的分辨率。
第二步是圖樣的轉(zhuǎn)移。在待加工的材料表面涂上光刻膠,然后將模板壓在其表面,采用加壓的方式使圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除,防止模板與材料直接接觸,損壞模板。
第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化,移開模板后,用刻蝕液將上一步未去除的光刻膠刻蝕掉,露出待加工材料表面,然后使用化學(xué)刻蝕的方法進行加工,完成后去除全部光刻膠,最終得到高精度加工的材料。




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