CNI v3.0 CNI v3.0小型納米壓印機(jī)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CNI v3.0
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/5/16 21:45:34
- 訪問次數(shù) 3039
產(chǎn)品標(biāo)簽
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勻膠機(jī)，光刻機(jī)，顯影機(jī)，等離子清洗機(jī)，紫外臭氧清洗機(jī)，紫外固化箱，壓片機(jī)，等離子去膠機(jī)，刻蝕機(jī)，加熱板
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|
特色：
- 體積小巧，容易存放，桌面型；
- 輕微復(fù)制微米和納米級結(jié)構(gòu)；
- 熱壓印溫度高達(dá)200℃；
- 可選的高溫模塊，適用于250℃；
- UV納米壓印，365nm曝光；
- 可選的UV模塊，適用于405nm曝光；
- 真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?.1mbar）；
- 納米壓印壓力高達(dá)11bar；
- 溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)；
- 筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，*靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)；
- 直徑大210mm（圓形）腔室；
- 腔室高度為20mm；
- 即插即用
- 使用簡單直觀
- 專為研發(fā)而設(shè)計
- 提供安裝和操作教程視頻
在過去的五年中，基于石墨烯的氣體傳感器引起了很大的興趣，顯示出了單分子檢測的優(yōu)勢。 近的研究表明，與未構(gòu)圖的層相比,構(gòu)圖石墨烯可大大提高靈敏度.
通過標(biāo)準(zhǔn)程序生長CVD石墨烯，然后轉(zhuǎn)移到Si/SiO 2模板上進(jìn)行進(jìn)一步處理。 如（Mackenzie，2D Materials，使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區(qū)域。
使用軟壓印在CNI v2.0中進(jìn)行熱納米壓印光刻，將mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃，6bar壓力下壓印10分鐘，壓力在70℃下釋放。
通過反應(yīng)離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉(zhuǎn)移到石墨烯中，并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。
發(fā)現(xiàn)器件具有大約的載流子遷移率發(fā)現(xiàn)器件在加工前具有約2000cm2/Vs的載流子遷移率，之后具有400cm2/Vs的載流子遷移率處理，同時保持整體低摻雜水平。
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