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Raith 150 Two Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準

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藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準分子清洗機，等離子清洗機等儀器設備。引進日本，德國，韓國*技術，設備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認可。

  同時我們專注進口科學儀器設備及材料，主要代理有：德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關儀器及材料。

光刻機，鍍膜沉積機，刻蝕機，UV清洗機，實驗檢測儀器，UV燈

產(chǎn)地類別 進口 應用領域 電子

Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
 

詳細介紹

Raith 150 Two作為高分辨電子束曝光系統(tǒng)，自推出以來銷量不容忽視。該系統(tǒng)被廣泛地用于研發(fā)和納米技術中心，已證明了系統(tǒng)的24/7使用的穩(wěn)定性。

Raith 150 Two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。

環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。

超高分辨曝光及成像

00001. 小于8nm曝光

00002. 低電壓曝光及成像

00003. 系統(tǒng)自動化程度高

00004. 大可處理8"樣片

00005. 隔墻安裝 / 熱穩(wěn)定性

研發(fā)及小批量生產(chǎn)

軟硬件的高自動化程度保障了小批量生產(chǎn)中進行簡單且可重復性的曝光工作。

Raith 150 Two 高分辨的電子光學柱結合多種探測器可實現(xiàn)對準標記識別和過程控制中*的靈活性。

Raith 150 Two 應用

· 75nmT型柵高電子遷移率晶體管器件

 

· HSQ膠上制作亞4.5nm線條

 

· 采用traxx長線條無寫場拼接曝光模式制作延遲波導結構

· 5um厚膠上制作三維菲涅爾透鏡陣列結構

 

· PMMA膠上制作精細的11nm線條

 

· PMMA膠上制作60nm周期光柵結構

RAITH150 Two 產(chǎn)品詳情

主要應用:

· 納米級光刻

· 高分辨成像

· 低電壓電子束光刻

 

 

 

樣品臺:

· 完整的6“ 移動范圍

· Z軸移動范圍大

 

 

電子槍技術:

· Gemini

· 電子

· 30 kV

· Inlense二次電子探測器

· 能量選擇背散射二次電子探測器（選配）

 

*直寫模式:

· traxx長線條無寫場拼接曝光模式

· periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式

 

 


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