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Voyager Raith Voyager 新一代電子束光刻系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本,德國,韓國*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

  同時我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國 OAI 光刻機(jī),德國 Raith 電子束光刻機(jī),英國 Durtham 無掩膜光刻機(jī),美國 Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機(jī),美國 Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國 Arradiance 原子層沉積機(jī),德國 WL 微波離子沉積機(jī),德國 Iplas 微波離子沉積機(jī),美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品;并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機(jī),鍍膜沉積機(jī),刻蝕機(jī),UV清洗機(jī),實驗檢測儀器,UV燈

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

Voyager 新一代電子束光刻系統(tǒng)

高速且價格合理的電子束光刻機(jī)實現(xiàn)精確的曝光效果

對于工業(yè)界和學(xué)術(shù)界所有關(guān)注速度和高分辨的電子束曝光應(yīng)用,我們*您選擇VOYAGERTM這款專業(yè)電子束光刻系統(tǒng)。

Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發(fā)的、創(chuàng)新的eWRITE體系結(jié)構(gòu)。

系統(tǒng)的硬件和軟件被*設(shè)計為自動曝光操作,*的高性能圖形發(fā)生器和電子光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計并協(xié)同*。

系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo),可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩,即使在稍差的實驗室環(huán)境下,仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性,提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。

超高分辨率曝光系統(tǒng)

00001. 從初設(shè)計到樣品制備完成,實現(xiàn)高速樣品加工,提高產(chǎn)量

00002. 智能設(shè)計:設(shè)備占地面積小,且集成環(huán)境屏蔽罩

00003. 創(chuàng)新的、未來安全型系統(tǒng)架構(gòu)

00004. 專業(yè)的電子束曝光系統(tǒng),可實現(xiàn)每小時1cm2的高速曝光,高性價比

eWrite技術(shù)

Raith新推出的eWrite技術(shù)結(jié)合了專業(yè)電子束光刻的光學(xué)系統(tǒng)和創(chuàng)新的圖形發(fā)生器設(shè)計,該技術(shù)適用于研發(fā)及批量生產(chǎn)的所有工作。

VOYAGER 應(yīng)用

· HSQ膠上制作亞7nm線條

 

· SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡,曝光時間為53分鐘,圖為菲涅爾透鏡中心區(qū)域

· PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結(jié)構(gòu)

· ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結(jié)構(gòu),曝光時間小于2小時

· 高速度模式(40nA束電流下曝光160um大結(jié)構(gòu))和高分辨模式(0.4nA束電流下曝光10nm細(xì)小結(jié)構(gòu))自動切換

· ZEP520膠上制作光子晶體波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

VOYAGER 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用:

· 高速直寫

· 衍射光學(xué)元件

· 防偽元件

· 批量加工化合物半導(dǎo)體器件

 

樣品臺:

· 6“ 移動范圍

· Z方向移動范圍大

 

電子槍技術(shù):

· eWrite

· 電子

· 50 kV

 

 

*直寫模式:

· traxx 長線條無寫場拼接曝光模式

· periodixx周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接曝光模式

 

 

 


 


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