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HBO 200W/DC SUSS光刻機(jī)用曝光燈

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本,德國,韓國*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

  同時(shí)我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國 OAI 光刻機(jī),德國 Raith 電子束光刻機(jī),英國 Durtham 無掩膜光刻機(jī),美國 Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機(jī),美國 Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國 Arradiance 原子層沉積機(jī),德國 WL 微波離子沉積機(jī)德國 Iplas 微波離子沉積機(jī),美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品;并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機(jī),鍍膜沉積機(jī),刻蝕機(jī),UV清洗機(jī),實(shí)驗(yàn)檢測儀器,UV燈

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

SUSS MicroTecv美國蘇斯公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體和太陽能行業(yè)用光刻機(jī),目前得到業(yè)界的廣泛認(rèn)同,該系列光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的曝光燈,主要是由德國歐司朗公司生產(chǎn)的曝光燈進(jìn)行配套供應(yīng)。歐司朗曝光燈系列,具備良好的光通量,穩(wěn)定的光強(qiáng)度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。

 

目前供蘇斯光刻機(jī)配套的相關(guān)參數(shù)如下:

 

  HBO® short-arc mercury varour lamps for microlithography

 

Lamps for SÜSS  Equipment

Lamp type

Max life[h]

Equipment(適用機(jī)型)

HBO 200W/DC

1000

MJB3,MJB4

HBO 350W/S

600

MA4,MA6,MA8,MA150,MJB3,MJB21,UV300/500

HBO 1000W/D

1000

MA150,MA200,MA4,MA6,MA8

HBO 5000W/S

1000

MA300

 

 

以下是歐司朗曝光燈的技術(shù)參數(shù):



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