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Iplas 沉積機 德國 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積

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德國 Iplas策波等離子沉積機

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藍(lán)星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝：紫外臭氧清洗機（UV清洗機），準(zhǔn)分子清洗機，等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本，德國，韓國*技術(shù)，設(shè)備已獲得眾多院校，研究所，高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。

  同時我們專注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料，主要代理有：德國 Heidelberg 海德堡光刻機，美國 OAI 光刻機，德國 Raith 電子束光刻機，英國 Durtham 無掩膜光刻機，美國 Trion 刻蝕機.沉積機，德國 Sentech 刻蝕機.沉積機，德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀，日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈，美國Jelight UV清洗機，美國 Nano-master 晶圓清洗機，美國 Arradiance 原子層沉積機，德國 WL 微波離子沉積機，德國 Iplas 微波離子沉積機，美國量子科學(xué) Quantum 綜合物性測量系統(tǒng)，德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品；并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機，鍍膜沉積機，刻蝕機，UV清洗機，實驗檢測儀器，UV燈

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子

德國 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積

 

德 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積
 

詳細(xì)介紹
德國 IPLAS 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)（MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

MPCVD是*的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限，可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán)，大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化，從而確保單晶生長的持續(xù)性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。
 

化學(xué)機理概要：

碳?xì)浠衔铮禾峁┏练e材料

氫氣：生成sp3鍵

氧：對石墨相/sp2鍵侵蝕

惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。

適用合成材料：

大尺寸寶石級單晶鉆石

高取向度金剛石晶體

納米結(jié)晶金剛石

碳納米管/類金剛石碳（DLC）


金剛石薄膜

寶石級鉆石

vvs1,~1 carrat, E grade

 

多種等離子發(fā)生器選擇：

 

頻率：2.45GHz, 915MHz:

 

功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW

 

等離子團(tuán)直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm

 

工作其他范圍：0-1000mBar 

 

                    

其他應(yīng)用：


MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累，可以為用戶提供高度定制的設(shè)備，滿足用戶不同的應(yīng)用需要。

 

 

 



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