NMD-250 韓國APP氮氣等離子清洗機

韓國APP氮氣等離子清洗機

韓國APP公司，是專業(yè)大氣壓等離子設備開發(fā)、生產(chǎn)企業(yè)。以表面清潔，表面改性為基礎，APP的等離子技術致力于更多元的應用，如灰化，蝕刻，還原，滅菌，疏水式處理等，形成系列方案。APP的大氣壓等離子系統(tǒng)，囊括了氬氣等離子，氮氣等離子，空氣等離子等業(yè)內(nèi)主流技術，既有針對小尺寸的直噴空氣等離子，也有針對OLED10.5代產(chǎn)線的3米寬氬氣在線等離子方案，還有區(qū)別于常規(guī)產(chǎn)品的可視化氮氣等離子方案，針對不同領域客戶的不同需求，公司憑借豐富的從業(yè)經(jīng)驗，可以為客戶量身定制適合的等離子方案

韓國APP氮氣等離子清洗機一般規(guī)格

1-1. 等離子單元

1-1-1.主要部件 : 等離子頭,低頻電源, 氣流控制器

1-1-2. 外接電源 : 交流220伏, 單相, 50/60赫茲, 15安, 需接地

1-1-3. 氣體 ( 用戶自備 )

- 承載氣體 : 氮氣, Φ6 快插式接頭, 0.3 兆帕

- 反應氣體 :干潔壓縮空氣（ CDA), Φ6 快插式接頭, 0.3 兆帕

1-1-4. 接地 : 等離子頭 & 低頻電源

** CDA ( Compressed & Dried Air )

** 承載氣體 : 等離子放電所需的基本氣體

** 反應氣體 : 等離子處理時所用的輔助氣體

1-2. 等離子設定條件 (標準設定條件)

1-2-1. 低頻電源 :  700[瓦]  (設定區(qū)間650 –  750 瓦 )                

1-2-2. 氮氣用量:  60~80[ 升/分]  / 處理效果依離子頭高度變化而變化.  

1-2-3. CDA用量 : 0~50[毫升/分]  / 低 0 - 大 100 毫升/分 ,

流量與處理效果成正比關系.                                  

1-2-4. 處理速度 : 30[毫米/秒] / 低 10毫米/秒 – 大100毫米/秒
速度與處理效果成反比關系.  

1-2-5. 離子頭高度 : 4~7[毫米]  / 低 4毫米 – 大7毫米
離子頭高度與處理效果成反比關系.

依預期處理效果可以對上述條件更改參數(shù).