gh-13mm 等離子清洗機處理原理及優(yōu)點

等離子清洗機處理原理及優(yōu)點

一、等離子清洗機的表面改性

1 清洗作用：去除基體表面的弱鍵以及典型-CH 基有機污染物和氧化物。

主要特點： 只對材料表面起作用而對內部無任何侵蝕， 得到超高潔凈表面為下道工序做好準備。

2 刻蝕作用：是利用典型的氣體組合形成具有強烈蝕刻性的氣相等離子體與物體表面的有機物基體發(fā)生化學反應，生成其他比如 CO、CO2、H2O 等氣體，從而達到蝕刻的目的。主要特點：刻蝕均勻；不傷害工件基體；能有效去除表面異物，達到理想刻蝕度。

3 活化作用： 使基體表面形成 C=O 羰基 （Carbonyl） 、 -COOH 羧基（Carboxyl） 、 OH 羥基 （Hydroxyl）三種基團。這些基團具有穩(wěn)定的親水功能，對粘接有積極作用。

主要特點：可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵，這些活性基團與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應生成新的活性基團，從而增加表面能量，改變表面的化學特性，增強表面附著力、粘結力。

4 涂層（接枝、沉積）作用：在等離子涂鍍中兩種氣體同時進入反應艙，氣體在等離子環(huán)境下會聚合。這種應用比活化和清洗的要求要嚴格一些。典型的應用是保護層的形成，應用于燃料容器、防刮表面、類似聚四氟乙烯(PTFE)材質的涂鍍、防水鍍層等。

主要特點： 可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產生新的自由基、雙鍵等活性基團， 隨之發(fā)生交聯(lián)、 接枝等反應；同時活性氣體會在材料表面聚合產生一層沉積層，此沉積層的存在將*地提高材料表面的粘接、涂覆和印刷的結合力。

等離子清洗機處理原理及優(yōu)點

二、等離子體清洗原理
通過化學或物理作用對工件表面進行處理，實現(xiàn)分子水平的污染物去除（一般厚度為幾個～幾十個納米），從而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝，根據(jù)選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。
1 化學清洗:表面作用以化學反應為主的等離子體清洗，又稱 PE。

從反應式可見，氧等離子體通過化學反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的
H2O 和 CO2。

從反應式可見，氫等離子體通過化學反應可以去除金屬表面氧化層，清潔金
屬表面。
2 物理清洗：表面作用以物理反應為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。