化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>恒溫循環(huán)器>TES-8555W -92℃~250℃TEC半導(dǎo)體冷水機(jī)
TES-8555W -92℃~250℃TEC半導(dǎo)體冷水機(jī)
- 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 LNEYA/無錫冠亞
- 型號(hào) TES-8555W
- 產(chǎn)地 江蘇省無錫市新吳區(qū)機(jī)光電工業(yè)園鴻運(yùn)路203號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/1/8 20:19:10
- 訪問次數(shù) 1415
芯片高低溫測(cè)試元器件測(cè)試用設(shè)備高低溫一體機(jī)冷熱一體機(jī)制冷加熱循環(huán)器
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制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機(jī)、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機(jī)、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子,汽車,電氣 |
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適合元器件測(cè)試用設(shè)備
在用于惡劣環(huán)境的半導(dǎo)體電子元件的制造中,IC封裝組裝和工程和生產(chǎn)的測(cè)試階段包括在溫度(-85℃至+ 250℃)下的電子冷熱測(cè)試和其他環(huán)境測(cè)試模擬。
無錫冠亞積探索和研究元件測(cè)試系統(tǒng),主要用于半導(dǎo)體測(cè)試中的溫度測(cè)試模擬,具有寬溫度定向和高溫升降,溫度范圍-92℃~250℃,適合各種測(cè)試要求,解決了電子元器件中溫度控制滯后的問題,超高溫冷卻技術(shù)可以直接從300℃冷卻。該產(chǎn)品適用于電子元器件的精確溫度控制需求。
無錫冠亞元器件高低溫測(cè)試機(jī)在用于惡劣環(huán)境的半導(dǎo)體電子元件的制造中,IC封裝組裝和工程和生產(chǎn)的測(cè)試階段包括在溫度(-85℃至+ 250℃)下的電子冷熱測(cè)試和其他環(huán)境測(cè)試模擬。這些半導(dǎo)體器件和電子產(chǎn)品一旦投入實(shí)際應(yīng)用,就可以暴露在端環(huán)境條件下,滿足苛刻的軍事和電信可靠性標(biāo)準(zhǔn)。
-92℃~250℃TEC半導(dǎo)體冷水機(jī)的原理半導(dǎo)體制冷激光器、就是把激光腔體作為半導(dǎo)體制冷器的冷端,通過制冷器的工作,將發(fā)射激光時(shí)腔體內(nèi)產(chǎn)生的熱量迅速搬出勝外,維持激光器連續(xù)正常運(yùn)轉(zhuǎn)的工作溫度,達(dá)到冷卻的目的。
-92℃~250℃TEC半導(dǎo)體冷水機(jī)制冷器電源半導(dǎo)體冷卻先要解決制冷器的電源問題??紤]到機(jī)載應(yīng)用,同時(shí)兼顧所需制冷量大小,選擇適當(dāng)型號(hào)的制冷塊,因此,無須專門設(shè)計(jì)加工制冷器供電電源,直接使用飛機(jī)上27V直流電源即可。
TEC半導(dǎo)體冷水機(jī)的選擇激光工作物質(zhì)工作時(shí),單位時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生的熱量應(yīng)為:Q-P,n(lV)其中,只n為泵浦輸入功率,力為激光工作物質(zhì)的激光效率。據(jù)此,可確定所需制冷塊的型號(hào)和數(shù)量。冷端裝置的設(shè)計(jì)冷端裝置的設(shè)計(jì)是關(guān)鍵技術(shù)問題。激光腔體是半導(dǎo)體制冷器的冷端接觸部件,將泵浦燈所輻射的能量迅速傳導(dǎo)于膠體,是冷端裝置的關(guān)鍵所在。這就要求激光工作物質(zhì)與熱傳導(dǎo)體必須緊密接觸,盡可能使激光工作物質(zhì)整體溫度均勻一致,并將熱量迅速傳導(dǎo)到半導(dǎo)體制冷器的冷端,增強(qiáng)冷卻效果。
另外,還必須有較大的蓄水箱和有一定要求的循環(huán)水泵及水管,這又增加了體積重量負(fù)擔(dān),給實(shí)際的機(jī)載應(yīng)用帶來了不便。隨著科學(xué)技術(shù)日新月異的發(fā)展,激光器件水平也不斷提高。工作物質(zhì)(如雙摻YAG晶體)和半導(dǎo)體泵浦等一系列*的激光材料和激光技術(shù)的應(yīng)用,使得激光器件的效率提高,輸入能量降低,整機(jī)體積減小。而龐大的冷卻系統(tǒng)更顯得不相適應(yīng),同時(shí)激光器輸入能量降低也給半導(dǎo)體制冷工程應(yīng)用開創(chuàng)了前景。
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