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Nano PVD系列臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司
品牌 其他品牌
型號(hào) Nano PVD系列
產(chǎn)地 英國(guó)
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2024/4/18 11:47:34
訪問次數(shù) 2856

產(chǎn)品標(biāo)簽

PVD 薄膜制備真空沉積

在線交流發(fā)送詢價(jià) 進(jìn)入商鋪同類產(chǎn)品

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

我們是誰(shuí)
美國(guó)Quantum Design公司是科學(xué)儀器制造商，其研發(fā)生產(chǎn)的系列磁學(xué)測(cè)量系統(tǒng)及綜合物性測(cè)量系統(tǒng)已成為業(yè)內(nèi)進(jìn)的測(cè)量平臺(tái)，廣泛分布于全球材料、物理、化學(xué)、納米等研究域的科研實(shí)驗(yàn)室。Quantum量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司(暨Quantum Design中國(guó)子公司) 成立于2004年，是美國(guó)Quantum Design公司設(shè)立的諸多子公司之，在全權(quán)負(fù)責(zé)美國(guó)Quantum Design公司本部產(chǎn)品在中國(guó)的銷售及售后技術(shù)支持的同時(shí)，還致力于和范圍內(nèi)物理、化學(xué)、生物域的科學(xué)儀器制造商進(jìn)行密切合作，幫助中國(guó)市場(chǎng)引進(jìn)更多全球范圍內(nèi)的質(zhì)設(shè)備和技術(shù)，助力中國(guó)科學(xué)家的項(xiàng)目研究和發(fā)展。
我們的理念
Quantum Design中國(guó)的長(zhǎng)期目標(biāo)是成為中國(guó)與進(jìn)行進(jìn)技術(shù)、進(jìn)儀器交流的重要橋頭堡。助力中國(guó)科技發(fā)展的十幾年中，Quantum Design中國(guó)時(shí)刻保持著積進(jìn)取、不忘初心、精益求精的態(tài)度，為中國(guó)科學(xué)家提供更質(zhì)的科學(xué)和技術(shù)支持。隨著中國(guó)科學(xué)在舞臺(tái)變得愈加舉足輕重，Quantum Design中國(guó)將繼續(xù)秉承“For Scientist, By Scientist”的理念，助力中國(guó)科技蓬勃發(fā)展，助力中國(guó)科技在騰飛！
我們的團(tuán)隊(duì)
Quantum Design中國(guó)擁有支具備強(qiáng)大技術(shù)背景、職業(yè)化工作作風(fēng)的團(tuán)隊(duì)，并致力于培養(yǎng)并引進(jìn)更多博士業(yè)技術(shù)人才。目前公司業(yè)務(wù)團(tuán)隊(duì)高學(xué)歷業(yè)碩博人才已占比超過70%以上，高水平人才的不斷加入和日益密切的團(tuán)隊(duì)配合幫助QD中國(guó)實(shí)現(xiàn)連續(xù)幾年銷售業(yè)績(jī)的持續(xù)增長(zhǎng)
我們的服務(wù)
Quantum Design中國(guó)擁有完善的本地化售前、售中和售后服務(wù)體系。國(guó)內(nèi)本地設(shè)有價(jià)值超過50萬美元的備件庫(kù)，用于加速售后服務(wù)響應(yīng)速度；同時(shí)設(shè)有超過300萬美元的樣機(jī)實(shí)驗(yàn)室，支持客戶對(duì)設(shè)備進(jìn)行進(jìn)步體驗(yàn)和深度了解。 “不僅提供超的產(chǎn)品，還提供超的售后服務(wù)”這將是Quantum Design中國(guó)區(qū)別于其他科研儀器供應(yīng)商的重要征，也正成為越來越多科學(xué)工作者選擇Quantum Design中國(guó)的重要原因。

展開

PPMS，MPMS，低溫磁學(xué)，表面成像，樣品制備，生命科學(xué)儀器

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產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,能源,電子,電氣,綜合

臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

基于多年大型薄膜制備系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與研發(fā)所積累的豐富經(jīng)驗(yàn)，Moorfield Nanotechnology深入了解了劍橋大學(xué)、諾森比亞大學(xué)、帝國(guó)理工學(xué)院、巴斯大學(xué)、?？巳髮W(xué)、倫敦瑪麗大學(xué)等多所著名大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)的具體需求，經(jīng)過不懈努力推出了臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD產(chǎn)品。該系列產(chǎn)品是為高水平學(xué)術(shù)研究研發(fā)的小型物理氣相沉積設(shè)備。推出之后短短幾年時(shí)間已經(jīng)在歐洲銷售了數(shù)十臺(tái)，該系列產(chǎn)品包含了磁控濺射、金屬/機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng)。這些設(shè)備雖然體積小巧，但是性能越，能夠快速實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量納米薄膜、異質(zhì)結(jié)的制備，通常在大型設(shè)備中才有的共濺射和反應(yīng)濺射功能也可以在該系列產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)。準(zhǔn)確的有機(jī)物沉積系統(tǒng)更是該系列的大色。便捷的操作、智能的控制、高效的制備效率讓您的學(xué)術(shù)研究進(jìn)入快車道。

設(shè)備型號(hào)

臺(tái)式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A

nanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology傾力打造的款高度集成化智能化的臺(tái)式磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)雖然體積小巧，但是功能出色、配置齊全。該型號(hào)的推出是為了解決傳統(tǒng)臺(tái)式設(shè)備功能簡(jiǎn)單不能滿足前沿學(xué)術(shù)研究的問題。劍橋大學(xué)、諾森比亞大學(xué)、帝國(guó)理工學(xué)院等用戶都對(duì)這款臺(tái)式設(shè)備給予了很高的評(píng)價(jià)。

nanoPVD S10A多可安裝3個(gè)水冷式濺射源，可實(shí)現(xiàn)高功率持續(xù)運(yùn)行，靶材尺寸與大型系統(tǒng)樣是行業(yè)通用尺寸。系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)兩源共濺射方案，可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射方案，多可同時(shí)控制3路氣體。系統(tǒng)具有分子泵，可快速達(dá)到5*10-7mbar高真空。腔體取放樣品非常方便，樣品臺(tái)大尺寸4英寸，系統(tǒng)有智能化的觸屏控制系統(tǒng)，采用完備的安全設(shè)計(jì)方案。

nanoPVD S10A可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜、介電、緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等。

主要點(diǎn)：

◎ 水冷式濺射源，通用2英寸設(shè)計(jì)

◎ MFC流量計(jì)高精度控制過程氣體

◎ DC/RF濺射電源可選

◎ 全自動(dòng)觸摸屏控制方案

◎ 可設(shè)定、儲(chǔ)存多個(gè)濺射程序

◎ 大4英寸基片

◎ 本底真空<5*10^-7mbar

◎ 系統(tǒng)維護(hù)簡(jiǎn)單

◎ 完備的安全性設(shè)計(jì)

◎ 兼容超凈間

◎ 性能穩(wěn)定

選件：

◎ 機(jī)械泵類型可選

◎ 樣品腔快速充氣

◎ 自動(dòng)高精度壓力控制

◎ 添加過程氣體

◎ 500℃襯底加熱

◎ 襯底旋轉(zhuǎn)，Z向調(diào)節(jié)

◎ 三源濺射系統(tǒng)

◎ 共濺射方案

◎ DC/RF濺射電源可選

◎ 濺射電源自動(dòng)切換系統(tǒng)

◎ 晶振膜厚測(cè)量系統(tǒng)

典型配置方案：

金屬沉積：2個(gè)濺射靶，配DC電源與電源切換系統(tǒng)，襯底Z向調(diào)節(jié)與擋板系統(tǒng)，晶振膜厚測(cè)量系統(tǒng)。

緣材料沉積：2個(gè)濺射靶，配RF電源與電源切換系統(tǒng)，襯底加熱與氧氣通入氣路，襯底Z向調(diào)節(jié)與擋板系統(tǒng)，晶振膜厚測(cè)量系統(tǒng)。

反應(yīng)/共濺射:三個(gè)濺射靶，配備DC/RF電源與自由切換系統(tǒng)，三路過程氣體（Ar、O₂、N₂）用于沉積氧化物或氮化物。

臺(tái)式超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A-WA

Moorfield Nanotechnology根據(jù)客戶超大樣品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面積高質(zhì)量薄膜磁控濺射系統(tǒng)。該型號(hào)是nanoPVD-S10A的拓展型號(hào)，用于制備超大尺寸的樣品，大樣品可達(dá)8英寸。

該系統(tǒng)基于nanoPVD-S10A的成熟設(shè)計(jì)和越性能，在相同腔體的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上對(duì)nanoPVD-S10A進(jìn)行了調(diào)整，使濺射源正對(duì)襯底。結(jié)合襯底旋轉(zhuǎn)，即使在生長(zhǎng)8英寸的超大樣品時(shí)也可獲得很高的樣品均勻度。與nanoPVD-S10A樣，濺射源采用水冷式設(shè)計(jì)，可以持續(xù)高功率運(yùn)行，可實(shí)現(xiàn)共濺射等功能。nanoPVD-S10-WA是款接受半定制化的設(shè)備，如有殊需求請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行詳細(xì)討論。

主要點(diǎn)：

◎ 可制備8英寸超大樣品

◎ 水冷式2英寸標(biāo)準(zhǔn)濺射源

◎ MFC流量計(jì)高精度控制過程氣體

◎ 直流/交流濺射電源可選

◎ 全自動(dòng)觸屏控制

◎ 可設(shè)定、存儲(chǔ)多個(gè)生長(zhǎng)程序

◎ 本底真空<5×10^-7mbar

◎ 易于維護(hù)

◎ 全面安全性設(shè)計(jì)

◎ 兼容超凈間

◎ 系統(tǒng)性能穩(wěn)定

選件：

◎ 機(jī)械泵類型可選

◎ 腔體快速充氣

◎ 自動(dòng)高分辨壓力控制

◎ 增加過程氣體

◎ 升至雙濺射源

◎ DC/RF電源可選

◎ 濺射電源切換

◎ 共濺射方案

◎ 晶振膜厚測(cè)量系統(tǒng)

臺(tái)式高質(zhì)量金屬\有機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng) - nanoPVD T15A

nanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型號(hào)，高腔體設(shè)計(jì)方案為熱蒸發(fā)而設(shè)計(jì)，確保薄膜均勻度，大可生長(zhǎng)4英寸的薄膜樣品。近年時(shí)間在英國(guó)安裝就有十幾套，劍橋大學(xué)、巴斯大學(xué)、埃克塞大學(xué)、倫敦瑪麗大學(xué)等都是該設(shè)備的用戶。

系統(tǒng)可以配備低溫蒸發(fā)(LTE)和標(biāo)準(zhǔn)電阻蒸發(fā)源，分別用于沉積有機(jī)物和金屬薄膜。低熱容有機(jī)物蒸發(fā)源具有高精度的控制電源，可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)條件制備高質(zhì)量的有機(jī)物薄膜。金屬源采用盒式屏蔽模式，可以有效的減少交叉污染等問題。智能的控制系統(tǒng)和靈活的配置方案使PVD-T15A非常適合應(yīng)用于材料研究域。

nanoPVD T15A可用于制備高質(zhì)量的金屬、有機(jī)物薄膜和異質(zhì)結(jié)等材料?？蓱?yīng)用于傳統(tǒng)材料科學(xué)和新型的OLED（有機(jī)發(fā)光二管）、OPV（有機(jī)光伏材料）和 OFET（有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)管）域。

主要點(diǎn)：

◎ 可選金屬、有機(jī)物蒸發(fā)源

◎ 高縱橫比的腔體，增加樣品均勻性

◎ 全自動(dòng)觸屏控制系統(tǒng)

◎ 可設(shè)定、儲(chǔ)存多個(gè)蒸發(fā)程序

◎ 大4” 基片

◎ 本底真空<5*10^-7mbar

◎ 維護(hù)簡(jiǎn)單

◎ 完備的安全性設(shè)計(jì)

◎ 性能穩(wěn)定

選件：

◎ 機(jī)械泵類型可選

◎ 樣品腔快速充氣

◎ 自動(dòng)高精度壓力控制

◎ 多4個(gè)有機(jī)蒸發(fā)源

◎ 多2個(gè)金屬蒸發(fā)源

◎ 500℃襯底加熱

◎ 襯底旋轉(zhuǎn)，Z向調(diào)節(jié)

◎ 晶振測(cè)量系統(tǒng)

典型配置指標(biāo)：

金屬沉積：雙金屬源與擋板和晶振系統(tǒng)

有機(jī)物沉積：四個(gè)低溫蒸發(fā)源與擋板和晶振系統(tǒng)。

金屬/有機(jī)物沉積：兩個(gè)金屬源，兩個(gè)有機(jī)源與擋板和晶振系統(tǒng)。

發(fā)表文章

A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state density

Jin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2

作者報(bào)道了用用氧化鋅和PtOx肖基接觸界面制備高速肖基二管整流器的方法。為此，作者使用PE-ALD沉積ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系統(tǒng)通過射頻濺射制備金屬層和PtOx接觸層，包括反應(yīng)濺射模式(通過含氧氣氛沉積Pt)。所制備的器件具有適用于噪聲敏感和高頻電子器件的性能。

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