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Pioneer 180 MAPLE PLD PLD激光分子束外延系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Pioneer 180 MAPLE PLD
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/23 14:21:47
- 訪問次數(shù) 859
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
PLD激光分子束外延系統(tǒng)Pioneer 180 MAPLE是PLD的一種變體。這是由NRL集團(tuán)引入的,以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積?;赨V (5-6 eV)的傳統(tǒng)PLD技術(shù)可能不適用于這種情況,因?yàn)楣饣瘜W(xué)反應(yīng)可能會(huì)惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。在MAPLE中,通過將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長(zhǎng)的溶劑(基質(zhì))混合來制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外,在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。然后用液氮冷卻液體目標(biāo)物,使其凍結(jié)為固體。激光輻射主要被目標(biāo)的高揮發(fā)性、冷凍的溶劑(基質(zhì))分子吸收,這些分子隨后從固體目標(biāo)中脫離,捕獲和帶走感興趣的有機(jī)分子。在它們向基片傳輸?shù)倪^程中,高揮發(fā)性的基質(zhì)分子被抽走,將有機(jī)分子輸送到基片上沉積薄膜。
產(chǎn)品特點(diǎn)
獨(dú)立的MAPLE PLD系統(tǒng)。
有機(jī)和聚合物薄膜的沉積。
在同一室的附加沉積源(可選):脈沖電子沉積(PED)、射頻/直流濺射和直流離子源。
負(fù)載鎖定基底階段。
與XPS分析系統(tǒng)集成,晶片就地從PLD系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到分析系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)
1. PLD真空室尺寸:12 " / 18”直徑(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180 Models).
2. 基礎(chǔ)真空:5 x 10-7 Torr,泵軟件控制。
3. 襯底尺寸:直徑2“和/或多種1厘米x1厘米的樣品。
4. 襯底加熱:zui gao 500℃,擁有可編程的加熱器。
5. 基底旋轉(zhuǎn):20 RPM。軟件控制。
6. 目標(biāo)階段:液氮冷卻;單目標(biāo)階段為標(biāo)準(zhǔn);多個(gè)目標(biāo)(可選)
7 真空裝夾:襯底負(fù)載制動(dòng)
8. 工業(yè)廢氣:按要求處理氣體。50 - 100 SCCM mfc電池
9. 軟件:Windows 7/Labview 2013。
應(yīng)用領(lǐng)域
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition)是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材,生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的*之處是能量源(脈沖激光)位于真空室的外面。這樣,在材料合成時(shí),工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬,達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度,可以合成一系列具有*功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外,PLD 是一種“ 數(shù)字” 技術(shù),在納米尺度上進(jìn)行工藝控制(?/pulse)。
• Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)
• Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是quan qiu 研發(fā)領(lǐng)域 widest 使用的商業(yè)化系統(tǒng)
• Neocera 不僅為客戶提供*基本的PLD 系統(tǒng),也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案