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Pioneer 180 PLD System 脈沖激光沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) Pioneer 180 PLD System
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/5/7 14:36:41
- 訪問次數(shù) 596
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,航天,制藥,綜合 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Pioneer 180 PLD系統(tǒng)是一款用于在各種襯底上制備多種材料的高質(zhì)量外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的交鑰匙PLD系統(tǒng)。該P(yáng)LD系統(tǒng)與 Pioneer 120 Advanced PLD System系統(tǒng)的主要區(qū)別在于，具有更大的沉積模塊，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升級(jí)。Pioneer 180 PLD系統(tǒng)集成了兼容氧的輻射加熱臺(tái)。加熱器可兼容1大氣壓(760托)的氧氣，這是一種特性助于制備外延氧化膜，即滿足了(i)沉積在氧氣中，(ii)沉積后退火在氧氣中，以及在接近1大氣壓的氧氣中冷卻。襯底連續(xù)旋轉(zhuǎn)，并可以負(fù)載鎖定。Pioneer 180 PLD系統(tǒng)包括一個(gè)自動(dòng)多目標(biāo)旋轉(zhuǎn)、目標(biāo)光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標(biāo)選擇。閉環(huán)壓力控制提供了使用質(zhì)量流量控制器的精確過程壓力控制。干式泵是由機(jī)械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統(tǒng)軟件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加熱器，目標(biāo)轉(zhuǎn)盤，過程壓力，系統(tǒng)泵和激光觸發(fā)。由于襯底可以轉(zhuǎn)移，多種選擇變得可行。這些包括但不限于將PLD系統(tǒng)與各種其他沉積平臺(tái)(如特高壓濺射系統(tǒng))集成，也與super高壓分析系統(tǒng)(如XPS/ARPES等)集成。
產(chǎn)品特點(diǎn)
•外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。
•使用原位RHEED診斷技術(shù)沉積納米級(jí)薄膜。
•氧化膜沉積的氧相容性。
•升級(jí):離子輔助PLD，組合型PLD，目標(biāo)襯底負(fù)載鎖定。
•其他沉積源:脈沖電子沉積(PED)，射頻/直流濺射，直流離子槍。
•與XPS /ARPES特高壓集群工具集成，原位特高壓晶片轉(zhuǎn)移。
•原位診斷:低角度x射線光譜學(xué)(LAXS)和離子能光譜學(xué)(IES)。
技術(shù)參數(shù)
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