沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/7/10 8:51:01
- 訪問次數(shù) 770
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應用領域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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沉積系統(tǒng)介紹
高產量
等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達兩個片盒站組合,用于到200 mm晶片的高產量工藝。
研發(fā)
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備,以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空室和/或真空片盒站加載。
沉積系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂,可適用于三至六個端口。可以使用多達兩個片盒站來增加產量。傳送腔室可以配備多種選擇。
用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。強大的控制軟件可用于工業(yè)領域高產量的多腔系統(tǒng)。