PHI Versaprobe 4 X射線(xiàn)光電子能譜儀
- 公司名稱(chēng) 上海斯邁歐分析儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/12/24 9:42:35
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價(jià)格區(qū)間 | 150萬(wàn)-200萬(wàn) | 儀器種類(lèi) | 進(jìn)口 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
XPS 作為一種重要的表面分析方法,廣泛應(yīng)用于固體材料表面的元素組分和化學(xué)態(tài)的研究,例如電池材料,催化劑,集成電路,半導(dǎo)體,金屬,聚合物,陶瓷和玻璃等,可滿(mǎn)足從研發(fā)到失效分析的廣泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新設(shè)計(jì)的高靈敏分析器,靈敏度是上一代的2倍,具有更低的檢測(cè)限,能夠?qū)崿F(xiàn)從微區(qū)到大面積的高靈敏度化學(xué)分析。微聚焦掃描X射線(xiàn)和SXI影像,通過(guò)類(lèi)似SEM的SXI影響可以作為樣品導(dǎo)航,實(shí)現(xiàn)100%精準(zhǔn)地定義微區(qū)分析位置
PHI Versaprobe 4 X射線(xiàn)光電子能譜儀應(yīng)用范圍:
包括表面的元素與化學(xué)態(tài)分析(氫和氦除外)。
表面物種的化學(xué)狀態(tài)的識(shí)別,包括有機(jī)和無(wú)機(jī)材料,導(dǎo)體和絕緣體。
深入薄膜中的組成元素分布概況,包括半導(dǎo)體、薄膜結(jié)構(gòu),磁介質(zhì)薄膜,光學(xué)鍍膜,裝飾涂料,和耐磨涂層。
在必須避免會(huì)對(duì)電子束技術(shù)有破壞性效果時(shí)的樣品成分分析。
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