EVG7300 多功能紫外納米壓印光刻系統(tǒng)

它是一個(gè)基于模塊化和改進(jìn)的SmartNIL模塊的獨(dú)立系統(tǒng)，可以根據(jù)處理和自動(dòng)化水平進(jìn)行配置。EVG7300支持從150毫米到300毫米的晶圓尺寸，具有低至300納米的高精度對(duì)準(zhǔn)，先進(jìn)的過(guò)程控制和高吞吐量，可以滿足各種自由形狀和高精度納米和微光學(xué)元件和器件的先進(jìn)研發(fā)和大批量制造(HVM)需求。為了在HVM環(huán)境中集成預(yù)處理和后處理流的必要性，該模塊可以集成到HERCULES NIL系統(tǒng)中

這種多功能系統(tǒng)旨在服務(wù)于廣泛的新興應(yīng)用，包括微和納米壓印以及功能層的紫外線堆疊。因此，該設(shè)備可以增強(qiáng)晶圓級(jí)光學(xué)(WLO)，納米光子學(xué)，超表面和生物醫(yī)學(xué)芯片的工藝性能。這與行業(yè)對(duì)新型光學(xué)傳感器和光電子器件的需求密切相關(guān)，例如自動(dòng)駕駛，汽車和裝飾照明中的微透鏡陣列和投影儀，生物識(shí)別認(rèn)證的衍射光學(xué)器件以及復(fù)雜元透鏡的新興趨勢(shì)。利用這項(xiàng)技術(shù)的第一個(gè)應(yīng)用已經(jīng)存在于先進(jìn)的生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)波導(dǎo)領(lǐng)域，其中納米印跡技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜設(shè)計(jì)的高質(zhì)量制造。

特點(diǎn)

· 靈活性:UV- nil系統(tǒng)在一個(gè)工具中實(shí)現(xiàn)三個(gè)UV過(guò)程:SmartNIL, WLO和堆疊

     · 精確控制多步工藝，包括對(duì)準(zhǔn)，接觸和紫外線固化

     · 用于SmartNIL和WLO的低力自動(dòng)沖壓分離

· 可擴(kuò)展性:加工高達(dá)300mm基板的晶圓

· 模塊化:獨(dú)立模塊，以及集成到HERCULES NIL

     · 基材搬運(yùn):從手動(dòng)裝載到全自動(dòng)操作

     · 可選的自動(dòng)郵票加載SmartNIL允許連續(xù)模式操作

· 高級(jí)對(duì)齊功能

     · 實(shí)時(shí)校準(zhǔn)<±300nm(取決于工藝)

· UV LED燈最高功率500mW/cm2

     · > 90%均勻度

     · 可選:雙波長(zhǎng)工作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可選特性

     · 光楔誤差補(bǔ)償(WEC)

     · 溫度控制

· 行業(yè)先進(jìn)的工藝性能

     · 分辨率低至單納米范圍

     · 非常精確的殘余層控制

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（襯底尺寸）：最大300毫米

分辨率：≤10納米（視工藝及材料而定，主料由客戶提供）

支持的進(jìn)程：Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®