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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>涂膠顯影設備>M+100CD-S 半自動勻膠顯影機

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M+100CD-S 半自動勻膠顯影機

具體成交價以合同協(xié)議為準

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半導體設備、半導體材料、電子產品、機械零配件、儀器儀表、專用機床、力學、測量檢測設備、化學拋光設備的技術開發(fā)及服務;薄膜電路生產;光纖照明設備、環(huán)境試驗設備的生產及銷售.(依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動)

勻膠機,顯影劑,噴膠機

  • 自動滴膠、甩膠、勻膠

  • 供膠系統(tǒng)

  • 排風系統(tǒng)

  • 可配EBR&BSR功能

  • 適用用圓片尺寸: 2”、3”、4”;以及5x5,10x10,25x25方片

  • 工藝工步:放置圓片(可輔助定中心)    啟動    防濺罩到上位    真空吸片   防塵帽閉合   電機啟動    吹氮氣    低速滴膠    加速、高速勻膠     上刮邊    下刮邊

  • 電機停止    防塵帽開啟    防濺帽到下位    去真空、卸片(工藝結束)以上各工步流程為自動執(zhí)行,其中防塵帽、防濺帽、真空具有手動功能;

  • 主軸徑向跳動≤0.02mm,軸向竄動≤0.04mm;

  • 主軸轉速:200~7000轉/分,誤差±20轉/分,連續(xù)可調;

  • 主軸加速度(空載):0~3×103rad/秒2,連續(xù)可調; 

  • 工藝工步時間:0~999.9秒,設定增量±0.1秒;

  • 滴膠量和速度可調;


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