二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP

        二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP蔡司新一代蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有高質(zhì)量的成像和分析能力，將*進的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術與優(yōu)秀的用戶體驗結合。利用Sigma系列直觀的4步工作流程，在更短的時間內(nèi)獲得更多的數(shù)據(jù)，提高測試與生產(chǎn)效率?？蛇x配多種探測器，以滿足半導體、能源等新材料、磁性樣品、生物樣品、地質(zhì)樣品等不同的應用需求。結合蔡司原位電鏡實驗平臺，可以實現(xiàn)自動智能化的原位實驗工作流程，高效率獲取高通量、高質(zhì)量的原位實驗數(shù)據(jù)。EDS幾何設計保證了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、結果可靠。高分辨、全分析、多擴展、強智能、廣應用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科學和工業(yè)檢測等領域的“多面手"。

[ 產(chǎn)品特點 ]

ü                      Gemini鏡筒設計，低電壓高分辨，無漏磁

ü                      廣泛全面的應用場景

ü                      豐富靈活的探測手段

ü                      智能高效的工作流程

ü                      *進可靠的分析系統(tǒng)

ü                      強大完善的擴展平臺

[ 應用領域 ]

ü                      材料科學，如納米材料高分辨成像，高分子聚合物等不導電樣品成像，電池材料成分襯度成像，二維材料分析

ü                      生命科學，如生物樣品超微結構成像，冷凍樣品高分辨成像

ü                      地質(zhì)礦物學，如地質(zhì)樣品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼聯(lián)用分析

ü                      工業(yè)應用，如組件失效分析，工藝診斷

ü                      電子半導體行業(yè)，如質(zhì)量控制與分析，6英寸Wafer快速換樣，電子束曝光技術（EBL）

ü                      鋼鐵行業(yè)，如夾雜物分析，金屬材料自動原位成像分析

ü                      刑偵、法醫(yī)學

ü                      考古學、文物保護與修復

NanoVP lite模式下斷裂的聚苯乙烯表面成像

氧化鋁顆粒高分辨二次電子成像

                  ETSE探測器氧化鋅枝晶成像                                         InLens SE探測器氧化鋯&氧化鐵復合材料成像

用于高品質(zhì)成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡

靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。

二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP用于清晰成像的靈活探測

• 利用*進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。

• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。

• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

自動化加速工作流程

• 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。

• 首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。

• 接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結果可視化。

高級分析型顯微鏡

• 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。

• 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。

• 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。

基于成熟的 Gemini 技術

• Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

• Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。

• Gemini 電子束加